Special feature of forming solid planar diffusion a source for submicron structure
Електронний науковий архів Науково-технічної бібліотеки Національного університету "Львівська політехніка"
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Special feature of forming solid planar diffusion a source for submicron structure
|
|
| Creator |
Berezhansky, Volodymyr
|
|
| Subject |
silane
borazine ionic-plasma processing technique |
|
| Description |
Solid planar diffusion a source for forming submicron structure VLSI are given in this paper. |
|
| Date |
2011-02-14T14:06:19Z
2011-02-14T14:06:19Z 2010 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Berezhansky V. Special feature of forming solid planar diffusion a source for submicron structure / V. Berezhansky // Сучасні проблеми радіоелектроніки, телекомунікацій, комп'ютерної інженерії, Міжнародна конференція TCSET(2010 Львів-Славсько, Україна) ; Національний університет "Львівська політехніка". - Львів : Видавництво Національного університету "Львів. політехніка", 2010. - 380 с. - C. 364.
http://ena.lp.edu.ua:8080/handle/ntb/7381 |
|
| Language |
en
|
|
| Publisher |
Національний університет "Львівська політехніка"
|
|