Фізико-хімічні особливості субмікронної оптичної літографії великих інтегрованих схем
Електронний науковий архів Науково-технічної бібліотеки Національного університету "Львівська політехніка"
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Фізико-хімічні особливості субмікронної оптичної літографії великих інтегрованих схем
|
|
| Creator |
Новосядлий, С. І.
Курило, І. В. |
|
| Subject |
оптичні сканери
оптична літографія |
|
| Description |
Визначенні шляхи удосконалення оптичної літографії при переході на топологію субмікронних розмірів, а саме: удосконалення характеристик оптичних сканерів (степерів); розробка висококонтрастного резиста і проявника; підвищення роздільної здатності проекспонованого зображення топології модифікуванням поверхні резиста в HMDS. The patterns of improvement of optical lytography under the transition to topology of submicronic sites have been defined. These are an improvement of characteristics of optical scaners, an elaboration of high contrast resist and developer, an increasing of distinct capability of overexposed imaging topology with a modification of surface of HMDS.
|
|
| Date |
2011-04-28T12:12:26Z
2011-04-28T12:12:26Z 2000 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Новосядлий С. І. Фізико-хімічні особливості субмікронної оптичної літографії великих інтегрованих схем / С. І. Новосядлий, І. В. Курило // Вісник Державного університету «Львівська політехніка». – 2000. – № 395 : Хімія, технологія речовин та їх застосування. – С. 78-82. – Бібліографія: 4 назви.
http://ena.lp.edu.ua:8080/handle/ntb/8502 |
|
| Language |
ua
|
|
| Publisher |
Видавництво Державного університету «Львівська політехніка»
|
|