Механізм захисної дії арилоксамідних структур при уф-деградації поліамідів
Електронний науковий архів Науково-технічної бібліотеки Національного університету "Львівська політехніка"
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Механізм захисної дії арилоксамідних структур при уф-деградації поліамідів
|
|
| Creator |
Смоленський, І.М.
|
|
| Description |
На основі дослідження кінетичних закономірностей фотоокислювальної деградації аліфатичних поліамідів у присутності арилоксамідних структур при довгохвильовому опроміненні виявлено специфічний для них біполярно-йонний механізм дезактивації електронно-збуджених станів,що зумовлює переважно додатковий захисний ефект (γn = 1,4 − 2,3)надекранування в кінетичній області фотодеструкції.On research base of kinetic conformities to natural laws of photooxidation degradation of alifatic of polyamides in of presence arylioksiamid structures attached to twoliers irradiation, who is restal to bipolar-ionic decontamination mechanism specific for them of electronically-excited states, that foreordains an overwhelmingly additional protective effect ( γn = 1,4 − 2,3 ) superscreen in kinetic domain photodestruction. |
|
| Publisher |
Національний університет ''Львівська політехніка''
|
|
| Date |
2011-06-07T09:25:41Z
2011-06-07T09:25:41Z 2000 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Смоленський І.М. Механізм захисної дії арилоксамідних структур при уф-деградації поліамідів / І.М. Смоленський // Хімія, технологія речовин та їх застосування : [збірник наукових праць] / [редколегія: Й. Й. Ятчишин (відповідальний редактор) та інші]. - Львів : Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2000. - 196 с. - (Вісник / Національного університету "Львівська політехніка" ; № 414). - С. 92-98.
http://ena.lp.edu.ua:8080/handle/ntb/9689 |
|
| Language |
ua
|
|