Запис Детальніше

Some properties of thin film structures on the base of ZnO obtained by MOCVD method

Електронний науковий архів Науково-технічної бібліотеки Національного університету "Львівська політехніка"

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Some properties of thin film structures on the base of ZnO obtained by MOCVD method
 
Creator Roshchina, N. M.
Smertenko, P. S.
Stepanov, V. G.
Zavyalova, L. V.
Lytvyn, O. S.
 
Subject ZnO/Si heterojunction
metaloorganic chemical vapour deposition
current–voltage characteristics
 
Description This paper reports on the ZnO film structures
obtained by MOCVD method on Si substrates. The phase composition, structure and morphology of ZnO films as well as electrophysical properties of ZnO/Si heterojunction on their base were investigated. The possible charge flow
mechanisms in ZnO/Si heterojunction are discussed.
 
Date 2012-10-10T13:14:35Z
2012-10-10T13:14:35Z
2012
 
Type Article
 
Identifier Roshchina N. M. Some properties of thin film structures on the base of ZnO obtained by MOCVD method / N. M. Roshchina, P. S. Smertenko, V. G. Stepanov, L. V. Zavyalova, O. S. Lytvyn // Оксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування (ОМЕЕ – 2012) : збірник матеріалів міжнародної наукової конференції, 3-7 вересня 2012 року, Львів, Україна / Міністерство освіти і науки, молоді та спорту України, Національний університет “Львівська політехніка”. – Львів : Видавництво Львівської політехніки, 2012. – С. 59-60. – Паралельний титульний аркуш англійською. – Bibliography: 6 titles.
http://ena.lp.edu.ua:8080/handle/ntb/15149
 
Language en
 
Publisher Національний університет "Львівська політехніка"