Властивості низкорефрактивних плівок, отриманих за методом близького перенесення при сублімації графіту в квазізамкнутому об'ємі
Институционный репозиторий Киевского университета имени Бориса Гринченко
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Властивості низкорефрактивних плівок, отриманих за методом близького перенесення при сублімації графіту в квазізамкнутому об'ємі
Свойства низкорефрактивных пленок, полученных по методу близкого переноса при сублимации графита в квазизамкнутом объеме Properties of low-refractive-index films obtained by the close-spaced vapor transport technique under the sublimation of graphite in a quasi-closed volume |
|
| Creator |
Сопинский, Н.В.
Хомченко, В.С. Литвин, О.С. Савин, А.К. Семененко, Н.А. Евтух, А.А. Соболевский, В.П. Ольховик, Г.П. |
|
| Subject |
538.9 Фізика конденсованої матерії (в рідинному і твердому стані)
|
|
| Description |
Представлено результати досліджень властивостей низкорефрактивних вуглецевих плівок, нанесених технологією близького перенесення при сублімації графіту в закритому об'ємі. За допомогою методу монохроматичної багатокутові еліпсометрії досліджено оптичні властивості плівок, а за методом атомно-силової мікроскопії - морфологія їх поверхні. Встановлено, що плівки мають стовбчасту структуру з базовою шорсткістю поверхні ~ 1nm, крім того, на поверхні плівки присутні окремі острівці з діаметром основи ~ 200nm і висотою до 50nm. Показано, що осадження нізкорефрактивної вуглецевої плівки за методом близького перенесення на поверхню кремнієвих вістрів призводить до зниження порогу електронної польової емісії та різкого зростання величини струму
Представлены результаты исследований свойств низкорефрактивных углеродных пленок, нанесенных технологией близкого переноса при сублимации графита в закрытом объеме. При помощи метода монохроматической многоугловой эллипсометрии исследованы оптические свойства пленок, а по методу атомно-силовой микроскопии – морфология их поверхности. Установлено, что пленки имеют столбчатую структуру с базовой шероховатостью поверхности ∼ 1nm, кроме того, на поверхности пленки присутствуют отдельные островки сечением основы ∼ 200nm и высотой до 50nm. Показано, что осаждение низкорефрактивной углеродной пленки по методу близкого переноса на поверхность кремниевых острий приводит к снижению порога электронной полевой эмиссии и резкому росту величины тока. The properties of low-refractive-index carbon films obtained by close-spaced vapor transport at graphite sublimation are studied. The optical properties of the films are investigated by monochromatic multiple-angle ellipsometry, and their morphology is examined by AFM. It is found that the films have a columnar structure with a background surface roughness of about 1 nm. In addition, the surface of the film contains islands up to 50 nm in height with a footprint of ≈200 nm. A low-refractive-index carbon film deposited by close-spaced vapor transport on silicon tips is found to decrease the field emission threshold and drastically raise the current. |
|
| Publisher |
Физико-технический институт им.А.Ф.Иоффе РАН
|
|
| Date |
2011-11-29
|
|
| Type |
Стаття
PeerReviewed |
|
| Format |
text
|
|
| Identifier |
http://elibrary.kubg.edu.ua/2238/1/N_Sopinskii_V_Khomchenko_O_Lytvyn_etc_ZhTF_2011_v81_IS.pdf
Сопинский, Н.В. та Хомченко, В.С. та Литвин, О.С. та Савин, А.К. та Семененко, Н.А. та Евтух, А.А. та Соболевский, В.П. та Ольховик, Г.П. (2011) Властивості низкорефрактивних плівок, отриманих за методом близького перенесення при сублімації графіту в квазізамкнутому об'ємі Журнал технической физики, 81 (11). с. 125-129. ISSN 0044-4642 |
|
| Relation |
http://journals.ioffe.ru/jtf/
http://elibrary.kubg.edu.ua/2238/ |
|