Запис Детальніше

Позитивний фоторезист GeSe3 для мікропрофілювання поверхонь при створенні сенсорних структур

Институционный репозиторий Киевского университета имени Бориса Гринченко

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Relation http://elibrary.kubg.edu.ua/3476/
http://nmitf.kdu.edu.ua/index.php/ua/materialy-konferentsii-2013
 
Title Позитивний фоторезист GeSe3 для мікропрофілювання поверхонь при створенні сенсорних структур
Positive GеSе3 photoresist for surface microprofiling at sensor structures development
Положительный фоторезист GеSе3 для микропрофилирования поверхностей при создании сенсорных структур
 
Creator Минько, В.І.
Шепелявий, П.Є.
Данько, В.А.
Індутний, І.З.
Луканюк, М.В.
Литвин, О.С.
 
Subject 535 Оптика
 
Description Представлено результати досліджень можливого використання безмиш‘якової халькогенідної сполуки GeSe3 як позитивного фоторезисту для процесу інтерференційної фотолітографії.
The results of possible application of arsenic free GeSe3 chalcogenide compound as a positive photoresist for interference photolithography process reported.
Представлены результаты исследований возможного использования безмишьякового халькогенидного соединения GeSe3 как положительного фоторезиста для процесса интерференционной фотолитографии.
 
Publisher Кременчуцький національний університет ім. Михайла Остроградського імені Михайла Остроградського
 
Date 2013-05-22
 
Type Доповідь на конференції чи семінарі
NonPeerReviewed
 
Format text
 
Language ru
 
Rights —
 
Identifier http://elibrary.kubg.edu.ua/3476/8/V_Minko_P_Shepelyavyy_V_Danko_etc_NMITF-2013__IS.pdf
Минько, В.І. та Шепелявий, П.Є. та Данько, В.А. та Індутний, І.З. та Луканюк, М.В. та Литвин, О.С. (2013) Позитивний фоторезист GeSe3 для мікропрофілювання поверхонь при створенні сенсорних структур In: II Міжнародна науково - практична конференція «Напівпровідникові матеріали, інформаційні технології та фотовольтаїка», 22 - 24 травня 2013 р, Украъна, Кременчук, Кременчуцький національний університет імені М ихайла Остроградського.