Спосіб визначення товщини нанометрових шарів засобами атомно-силової мікроскопії
Институционный репозиторий Киевского университета имени Бориса Гринченко
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Relation |
http://elibrary.kubg.edu.ua/6222/
http://uapatents.com/4-67348-sposib-viznachennya-tovshhini-nanometrovikh-shariv-zasobami-atomno-silovo-mikroskopi.html u201111976 |
|
| Title |
Спосіб визначення товщини нанометрових шарів засобами атомно-силової мікроскопії
Способ определения толщины нанометровых слоев средствами атомно-силовой микроскопии Approach of determining the thickness of nanometer layers by atomic force microscopе |
|
| Creator |
Прокопенко, Інна Володимирівна
Литвин, Петро Мар’янович Литвин, Оксана Степанівна |
|
| Subject |
Патенти на винаходи
|
|
| Description |
Спосіб визначення товщини нанометрових шарів, нанесених на підкладку, який включає утворення в шарі заглиблень , які досягають границі розділу "шар-підкладка". Спосіб відрізняється тим, що в шарі утворюють серію подряпин зондом атомно-силового мікроскопа із зростаючою силою навантаження на зонд. Одночасно вимірюють глибину подряпин і фіксують те значення глибини, яке залишається незмінним для останніх двох або більше подряпин, одержаних при зростаючій силі навантаження. Це значення приймають за товщину досліджуваного шару.
Способ определения толщины нанометровых слоев, нанесенных на подложку, который включает образование в слое углублений, которые достигают границы раздела "слой-подложка". Способ отличается тем, что в слое образуют серию царапин зондом атомно-силового микроскопа с возрастающей силой нагрузки на зонд. Одновременно измеряют глубину царапин и фиксируют значение глубины, которое остается неизменным для последних двух или более царапин, полученных при возрастающей силе нагрузки. Это значение считают толщиной исследуемого слоя. The method for determining the thickness of nanometer layers deposited on a substrate, which comprises scratches that reaches the boundary of the "substrate-layer". The method is remarkable that in a layer form a series of scrathes that incised by probe of an atomic force microscope with increasing loading force on the probe, measuring the depth of the scratches at the same time. The depth value that remains unchanged for the last two or more scratches, obtained by increasing the loading force, is considered as a thickness of investigational layer. |
|
| Date |
2012-02-10
|
|
| Type |
Патент/свідоцтво
NonPeerReviewed |
|
| Format |
text
|
|
| Language |
uk
|
|
| Identifier |
http://elibrary.kubg.edu.ua/6222/1/I_Prokopenko_P_Lytvyn_O_Lytvyn_Patent_IS.pdf
Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова Національної академії наук України (2012) Спосіб визначення товщини нанометрових шарів засобами атомно-силової мікроскопії u201111976. |
|