Kinetics of dispersion of niobium and hafnium nanofilms deposited on oxide materials in vacuum annealing
Институционный репозиторий Киевского университета имени Бориса Гринченко
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Relation |
http://elibrary.kubg.edu.ua/6285/
http://www.tandfonline.com/loi/twld20 10.1080/09507116.2014.884329 |
|
| Title |
Kinetics of dispersion of niobium and hafnium nanofilms deposited on oxide materials in vacuum annealing
Кінетика дисперсії наноплівок ніобію і гафнію, нанесених на оксидні матеріали, при вакуумному відпалі Кинетика дисперсии нанопленок ниобия и гафния, нанесенных на оксидные материалы, при вакуумном отжиге |
|
| Creator |
Naidich, Yu.V.
Gab, I.I. Stetsyuk, T.V. Kostyuk, B.D. Lytvyn, O.S. |
|
| Subject |
538.9 Фізика конденсованої матерії (в рідинному і твердому стані)
|
|
| Description |
The authors present the results of an investigation into the dispersion kinetics of niobium and hafnium nanofilms with a thickness of 100 nm, deposited on the surface of specimens of aluminium oxide ceramics, sapphire and ceramics based on ZrO2 as a result of vacuum annealing at a temperature of 1300–1600 C with different holding times in the range of 2–20 min.
Представлені результати дослідження кінетики дисперсії наноплівок ніобію і гафнію товщиною 100 нм, нанесених на поверхню оксидалюмінієвої кераміки, сапфіру та кераміки на основі ZrO2, в результаті відпалу у вакуумі при температурах в діапазоні 1300-1600 С протягом 2-20 хв. Представлены результаты исследования кинетики дисперсии нанопленок ниобия и гафния толщиной 100 нм, нанесенных на поверхность оксидалюминиевой керамики, сапфира и керамики на основе ZrO2, в результате отжига в вакууме при температурах в диапазоне 1300-1600 С в течение 2-20 мин. |
|
| Publisher |
Taylor & Francis
|
|
| Date |
2014-02-21
|
|
| Type |
Стаття
PeerReviewed |
|
| Identifier |
Naidich, Yu.V. та Gab, I.I. та Stetsyuk, T.V. та Kostyuk, B.D. та Lytvyn, O.S. (2014) Кінетика дисперсії наноплівок ніобію і гафнію, нанесених на оксидні матеріали, при вакуумному відпалі Welding International, 28 (12). с. 973-976. ISSN 0950-7116 (Print), 1754-2138 (Online)
|
|