Comparative investigation of NbN and Nb-Si-N films: Experiment and theory
Институционный репозиторий Киевского университета имени Бориса Гринченко
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Relation |
http://elibrary.kubg.edu.ua/6290/
https://link.springer.com/article/10.3103/S1063457614060033 |
|
| Title |
Comparative investigation of NbN and Nb-Si-N films: Experiment and theory
Порівняльне дослідження плівок NbN і Nb-Si-N: експеримент і теорія Сравнительное исследование пленок NbN и Nb-Si-N: эксперимент и теория |
|
| Creator |
Ivashchenko, Victoria
Scrynskyy, P.L. Lytvyn, O.S. Butenko, O.O. Sinelnichenko, O.K. Gorb, L. Hill, F. Leszczynski, J. Kozak, A.O. Іващенко, Вікторія Людвігівна Литвин, Оксана Степанівна |
|
| Subject |
Наукові (входять до інших наукометричних баз, крім перерахованих, мають ISSN, DOI, індекс цитування)
|
|
| Description |
NbN and Nb-Si-N films have been deposited by magnetron sputtering of the Nb and Si targets on silicon wafers at various powers supplied to the Nb target. The films have been investigated by an atomic force microscope, X-ray diffraction, X-ray photoelectron spectroscopy, nanoindentaion and microindentation. The NbN films were nanostructured, and the Nb-Si-N films represented an aggregation of δ-NbNx nanocrystallites embedded into the amorphous Si3N4 matrix (nc-δ-NbNx/a-Si3N4). The annealing of the films in vacuum showed that their intensive oxidation occurred at annealing temperature higher than 600°C. To explain the experimental results on the Nb-Si-N films, first-principles molecular dynamics simulations of the NbN(001)/Si3N4 heterostructures have been carried out.
Плівки NbN і Nb-Si-N отримані методом магнетронного розпилення Nb і Si мішеней на кремнієвих пластинах при різних концентраціях потоку атомів із Nb мішені. Плівки досліджувались за допомогою атомно- силової мікроскопії, рентгеноструктурного аналізу, рентгенівської фотоелектронної спектроскопії, нано- і мікроіндентування. Плівки NbN виявились наноструктурованими, плівки Nb-Si-N представляли собою агрегацію δ-NbNx нанокристалітів в аморфнiй Si3N4 матриці (nc-δ-NbNx/a-Si3N4). Дослідження відпалених у вакуумі плівок показали, що їх інтенсивне окислення відбулося при температурі відпалу вище, ніж 600 ° C. Для пояснення експериментальних результатів були проведені першопринципні молекулярно-динамічні моделювання гетероструктур NbN (001)/Si3N4. Пленки NbN и Nb-Si-N получены методом магнетронного распыления Nb и Si мишеней на кремниевых пластинах при различных концентрациях потока атомов с Nb мишени. Пленки исследовались с помощью атомно силовой микроскопии, рентгеноструктурного анализа, рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, нано- и микроиндентирования. Пленки NbN оказались наноструктурированными, пленки Nb-Si-N представляли собой агрегацию δ-NbNx нанокристаллитов в аморфной Si3N4 матрице (nc-δ-NbNx / а-Si3N4). Исследование отожженных в вакууме пленок показали, что их интенсивное окисление произошло при температуре отжига выше, чем 600 ° C. Для объяснения экспериментальных результатов были проведены первопринципные молекулярно-динамические моделирования гетероструктур NbN (001) / Si3N4 |
|
| Publisher |
Allerton Press
|
|
| Date |
2014-12-28
|
|
| Type |
Стаття
PeerReviewed |
|
| Identifier |
Ivashchenko, Victoria та Scrynskyy, P.L. та Lytvyn, O.S. та Butenko, O.O. та Sinelnichenko, O.K. та Gorb, L. та Hill, F. та Leszczynski, J. та Kozak, A.O. та Іващенко, Вікторія Людвігівна та Литвин, Оксана Степанівна (2014) Порівняльне дослідження плівок NbN і Nb-Si-N: експеримент і теорія Journal of Superhard Materials, 36 (6). с. 381-392. ISSN 1063-4576 (Print) 1934-9408 (Online)
|
|