Запис Детальніше

Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення

Репозитарій Вінницького Національного Технічного Університету

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення
Устройство для определения момента окончания процесса плазменного травления
Device for determination of plasma etching process end
 
Creator Кравченко, Сергій Юрійович
Кравченко, Юрій Степанович
Осадчук, Володимир Степанович
Кравченко, Сергей Юрьевич
Кравченко, Юрий Степанович
Осадчук, Владимир Степанович
Kravchenko, Serhii Yuriiovych
Kravchenko, Yurii Stepanovych
Osadchuk, Volodymyr Stepanovych
 
Subject H01L 21/302
електронна техніка
процес плазмового травлення
контроль плазмових процесів
 
Description Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення, що містить вузькосмуговий інтерференційний фільтр, що оптично пов'язаний з фотоперетворювачем, який містить фототранзистор, біполярний транзистор, ємність, котушку індуктивності та два джерела постійної напруги, крім того частотний фотоперетворювач містить другий біполярний транзистори, перший та другий резистори, причому колектор фототранзистора з'єднаний з базою транзистора та першим виводом третього резистора, база фототранзистора з'єднана з першим виводом індуктивності, першим виводом ємності, емітером транзистора та виходом, емітер фототранзистора з'єднаний з другим виводом першого резистора, другим виводом ємності, другим виводом першого джерела постійної напруги, та другим виводом другого джерела постійної напруги, перший вивід першого резистора з'єднаний з другим виводом індуктивності, колектор транзистора з'єднаний з першим виводом другого резистора, другий вивід якого з'єднаний з першим виводом першого джерела постійної напруги, другий вивід третього резистора з'єднаний з першим виводом другого джерела постійної напруги.
Устройство для определения момента окончания процесса плазменного травления, которое содержит узкополосный интерференционный фильтр, который оптически связан с фотопреобразователем, который содержит фототранзистор, биполярный транзистор, емкость, катушку индуктивности и два источника постоянного напряжения, кроме того частотный фотопреобразователь содержит второй биполярный транзисторы, первый и второй резисторы, причем коллектор фототранзистора соединен с базой транзистора и первым выводом третьего резистора, база фототранзистора соединена с первым выводом индуктивности, первым выводом емкости, эмиттером транзистора и выходом, эмиттер фототранзистора соединен со вторым выводом первого резистора, вторым выводом емкости, вторым выводом первого источника постоянного напряжения, и вторым выводом второго источника постоянного напряжения, первый вывод первого резистора соединен со вторым выводом индуктивности, коллектор транзистора соединен с первым выводом второго резистора, второй вывод которого соединен с первым выводом первого источника постоянного напряжения, второй вывод третьего резистора соединен с первым выводом второго источника постоянного напряжения.
A device for determination of plasma etching process end comprises a narrow-band interference filter which is optically connected to a photoconverter comprising a phototransistor, a bipolar transistor, a capacitor, an inductance coil and two DC sources; the frequency photoconverter comprises a second bipolar transistor, a first and second resistor, collector of the phototransistor is connected to transistor base and first terminal of a third resistor, phototransistor base is connected to inductance first terminal, first lead off the capacitor, transistor emitter and output, phototransistor emitter is connected to first resistor second terminal, second lead of the capacitor, second terminal of first DC voltage source, and second terminal of first DC voltage source, and second terminal of second DC voltage source, first terminal of first resistor is connected to second lead of inductance, transistor collector is connected to first terminal of second resistor, second terminal of which is connected to first terminal of first DC voltage source, second terminal of third resistor is connected first terminal of second DC voltage source.
 
Date 2015-05-07T09:26:08Z
2015-05-07T09:26:08Z
2011-11-25
 
Type Other
 
Identifier 65017
Пат. 65017 UA, МПК H01L 21/302. Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення [Текст] / С. Ю. Кравченко, Ю. С. Кравченко, В. С. Осадчук (Україна). - № u201105004 ; заявл. 20.04.2011 ; опубл. 25.11.2011, Бюл. № 22. - 2 с. : кресл.
http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/691
 
Language uk_UA
 
Publisher Державне підприємство "Український інститут промислової власності" (УКРПАТЕНТ)