Пристрій для визначення закінчення процесу плазмового травлення
Репозитарій Вінницького Національного Технічного Університету
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Пристрій для визначення закінчення процесу плазмового травлення
Устройство для определения окончания процесса плазменного травления Device for determination of the end of process of plasma etching |
|
| Creator |
Кравченко, Сергій Юрійович
Кравченко, Юрій Степанович Мандзюк, Оксана Миколаївна Осадчук, Володимир Степанович Кравченко, Сергей Юрьевич Кравченко, Юрий Степанович Мандзюк, Оксана Николаевна Осадчук, Владимир Степанович Kravchenko, Serhii Yuriiovych Kravchenko, Yurii Stepanovych Mandziuk, Oksana Mykolaivna Osadchuk, Volodymyr Stepanovych |
|
| Subject |
G01N 21/00
електронна техніка процес плазмового травлення контроль плазмових процесів |
|
| Description |
Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення містить лазер як джерело світла, конденсор, поворотне дзеркало, діафрагму та плазмовий реактор з пластинками (зразками), що підлягають обробці і оптичним вікном для вводу і виводу оптичного випромінювання, який оптично пов'язаний з фотоперетворювачем, який містить фоторезистор, біполярний транзистор, ємність і джерело постійної напруги. Фотоперетворювач додатково містить другий і третій біполярні транзистори, перший, другий, третій, четвертий і п'ятий резистори, другу ємність.
Устройство для определения момента окончания процесса плазменного травления содержит лазер как источник света, конденсор, поворотное зеркало, диафрагму и плазменный реактор с пластинками (образцами), которые подлежат обработке и с оптическим окном для ввода и вывода оптического излучения, который оптически связан с фотопреобразователем, который содержит фоторезистор, биполярный транзистор, емкость и источник постоянного напряжения. Фотопреобразователь дополнительно содержит второй и третий биполярные транзисторы, первый, второй, третий, четвертый и пятый резисторы, вторую емкость. Device for determination of instant of the end of plasma etching includes laser as source of light, condenser, rotary mirror, diaphragm and plasma reactor with plates (samples) that are to be treated, and with optical window for inlet and outlet of optical radiation that is optically connected to photo-transformer that includes photoresistor, bipolar transistor, capacitor and source of direct voltage. Photo-transformer additionally includes second and third bipolar transistors, first, second, third, fourth and fifth resistors, second capacitor. |
|
| Date |
2015-05-20T08:59:59Z
2015-05-20T08:59:59Z 2011-04-26 |
|
| Type |
Other
|
|
| Identifier |
58789
Пат. 58789 UA, МПК G01N 21/00. Пристрій для визначення закінчення процесу плазмового травлення [Текст] / С. Ю. Кравченко, Ю. С. Кравченко, О. М. Мандзюк, В. С. Осадчук (Україна). - № u201011643 ; заявл. 30.09.2010 ; опубл. 26.04.2011, Бюл. № 8. - 3 с. : кресл. http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/831 |
|
| Language |
uk_UA
|
|
| Publisher |
Державне підприємство "Український інститут промислової власності" (УКРПАТЕНТ)
|
|