Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
|
|
| Creator |
Шулаев, В.М.
Андреев, А.А. Столбовой, В.А. Прибытков, Г.А. Гурских, А.В. Коростелева, Е.Н. Коржова, В.В. |
|
| Description |
Представлены результаты экспериментов по синтезу Ti-Si-N покрытий при их осаждении из многокомпонентной плазмы вакуумно-дугового разряда на подложки из нержавеющей стали и медной фольги. Полученные наноструктурные Ti-Si-N покрытия являются метастабильными пересыщенными твердыми растворами кремния в кубической фазе нитрида титана. Вакуумнодуговому испарению подвергались спеченные порошковые TiSi катоды. Материал двухфазного катода состоял из твердого раствора замещения кремния в титане α-Ti(Si) и силицида титана Ti5Si3. Обнаружено, что концентрация кремния в синтезируемых Ti-Si-N покрытиях и эмитируемых макрочастицах значительно ниже содержания кремния в TiSi катодах. Этот эффект связан с неоднородной эрозией катодным пятном вакуумной дуги материала катода. Интенсивная генерация плазменных струй и эмиссия макрочастиц происходят преимущественно на зернах α-Ti(Si) фазы.
Представлені результати експериментів із синтезу Ti-Si-N покриттів при їх осадженні з багатокомпонентної плазми вакуумно-дугового розряду на підкладинку з нержавіючої сталі й мідної фольги. Отримані наноструктурні Tі-Sі-N покриття є метастабільними пересиченими твердими розчинами кремнію в кубічній фазі нітриду титану. Вакуумно-дуговому випаруванню піддавалися спечені порошкові TіSі катоди. Матеріал двох-фазового катода складався із твердого розчину заміщення кремнію в титані α-Tі(Sі) і силіциду титану Tі5Sі3. Виявлено, що концентрація крем-нію в синтезованих Ті-Sі-N покриттях і емітованих макрочастинках значно нижче змісту кремнію в TіSі катодах. Цей ефект пов’язаний з неоднорідною ерозією катодної плями вакуумної дуги матеріалу катода. Інтенсивна генерація плазмових струменів і емісія макрочасток відбуваються головним чином на зернах α-Tі(Sі) фази. Presented are results of experiments on synthesis Ti-Si-N coatings deposited from multi-component vacuum-arc plasma at substrates of stainless steel and copper foils. Obtained nano-structure Ti-Si-N films are meta-stable oversaturated solution of silicon within cubic phase of titanium nitride. The sintered powder TiSi cathodes were subjected to vacuum-arc evaporation. Two-phase cathode was consisted of Si substitution solution within titanium α-Ti(Si) and titanium silicide Ti5Si3. It has been found that silicon concentration within synthesized Ti-Si-N coatings and emitted macro-particles is significantly less than silicon concentration in TiSi cathodes. This effect is due to non-uniform erosion of cathode material with cathode spot of vacuum arc. The intensive generation of plasma streams and macro-particles emission occurs presumably on the α-Ti(Si) – phase grains. |
|
| Date |
2010-04-19T14:51:56Z
2010-04-19T14:51:56Z 2008 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.А. Столбовой, Г.А. Прибытков, А.В. Гурских, Е.Н. Коростелева, В.В. Коржова // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 1-2. — С. 105-113. — Бібліогр.: 14 назв. — рос.
1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/7871 620.178.1: 539.533 |
|
| Language |
ru
|
|
| Publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
|
|