Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности
|
|
| Creator |
Рафальский, Д.В.
Дудин, С.В. Положий, К.И. |
|
| Description |
В работе описаны экспериментальные исследования импеданса индуктора в цилиндрическом источнике плазмы ВЧ индукционного типа. Представлены результаты измерений напряжения на индукторе, эффективных индуктивности и сопротивления. Сделан вывод, что в случае плазмы низкой плотности мнимой частью импеданса плазмы и геометрической индуктивностью плазмы можно пренебречь. С использованием этого подхода получены простые выражения для эффективного импеданса индуктора, которые хорошо согласуются с экспериментальными результатами.
У роботі описані експериментальні дослідження імпедансу індуктора в циліндричному джерелі плазми ВЧ індукційного типу. Представлено результати вимірів напруги на індукторі, ефективні індуктивності й опори. Зроблено висновок, що у випадку плазми низької щільності мнимою частиною імпедансу плазми й геометричною індуктивністю плазми можна знехтувати. З використанням цього підходу отримані прості вираження для ефективного імпедансу індуктора, які добре погодяться з експериментальними результатами. This paper describes experimental investigations of an inductive coil impedance in the cylindrical inductively coupled low density RF plasma source. Detailed measurements of the inductive coil voltage, effective inductance and resistance are reported. It is concluded that in the case of low plasma density imaginary part of the plasma impedance and geometrical plasma inductance can be neglected. Using this approach simple expressions for the effective inductor impedance have been obtained, being in good agreement with the experimental data. |
|
| Date |
2010-04-20T12:56:54Z
2010-04-20T12:56:54Z 2008 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности / Д.В. Рафальский, С.В. Дудин, К.И. Положий // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 3-4. — С. 155-159. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/7889 |
|
| Language |
ru
|
|
| Publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
|
|