Запис Детальніше

Резонансный метод определения толщин вакуумно-осажденных тонких пленок

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Резонансный метод определения толщин вакуумно-осажденных тонких пленок
 
Creator Кузьмин, А.В.
Семененко, В.Е.
Стервоедов, Н.Г.
Посухов, А.С.
 
Subject Радиофизика твердого тела и плазмы
 
Description В данной работе рассмотрен метод измерения толщины нанесённой плёнки и скорости её напыления методом кварцевого
датчика. Установлено, что при помощи резонансного метода может быть осуществлен непрерывный контроль толщин тонких пленок в диапазоне 10-100 нм. Определена структура пленок никеля и зависимость их толщин от резонансной частоты кварцевого
кристалла.
У роботі розглянуто метод визначення товщини
плівки та швидкості її нанесення методом кварцового датчика.
Встановлено, що за допомогою резонансного методу стає
можливим здійснення безперервного контролю товщин тонких плівок у діапазоні 10-100 нм. Визначена структура плівок
нікелю та залежність їх товщин від резонансної частоти кварцового кристалу.
This work deals with the methods of thickness measuring
of the coated film by means of a quartz sensor. Nickel
films thickness dependence on quartz crystal resonance frequency
were obtained and graphically presented.
 
Date 2010-08-04T09:30:04Z
2010-08-04T09:30:04Z
2008
 
Type Article
 
Identifier Резонансный метод определения толщин вакуумно-осажденных тонких пленок / А.В. Кузьмин, В.Е. Семененко, Н.Г. Стервоедов, А.С. Посухов // Радіофізика та електроніка. — 2008. — Т. 13, № 2. — С. 214-217. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
1028-821X
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/10576
539.234:548
 
Language ru
 
Publisher Інститут радіофізики і електроніки ім. А.Я. Усикова НАН України