Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl
|
|
| Creator |
Савчук, А.В.
Кочетова, С.А. Буряк, Н.И. Туманова, Н.Х. |
|
| Subject |
Электрохимия
|
|
| Description |
Исследовано электрохимическое поведение родия в низкотемпературном карбамид-хлоридном расплаве. Изучены механизм анодного растворения металла в расплавленном карбамиде, карбамид-хлоридном расплаве, карбамид-хлоридном расплаве, содержащем RhCl3. Установлены состав и структура комплексов родия (Rh(NH3)6^3–), образующихся в расплаве после анодного растворения. После электрохимического восстановления комплексов на платиновой поверхности образуется слой родия толщиной до 3 мкм с размером частиц от 10—20 нм, частично глобулированный.
Досліджено електрохімічну поведінку родію в низькотемпературному розплаві карбамід— NH4Cl. Вивчено механізм анодного розчинення металу в розплавленому карбаміді, розплаві карбамід—NH4Cl та у розплаві карбамід—NH4Cl з домішкою RhCl3. Встановлено склад та структуру комплексів родію, які утворилися в розплаві (Rh(NH3)6^3–) після анодного розчинення. Після електрохімічного відновлення комплексів на платиновій поверхні утворюється нашарок родію товщиною до 3 мкм, з розміром часточок від 10—20 нм, частково глобулований. The electrochemical behaviour of rhodium at low-temperature carbamide-chloride melt was investigated. The mechanism of anodic dissolution of Rh electrode has been studied in carbamide, carbamide-chloride and carbamide-chloride melts wich contain the salt of Rh (III). The composition and structure of complex ions formed after anodic dissolution (Rh(NH3)6^3–) have been studied. After electrochemical reduction of electroactive complexes, the layer of rhodium is formed on Pt surface, the thikness of layer is about 3 mkm, the size of particularesis nearly 10—20 nm, the rhodium deposition is partly global. |
|
| Date |
2010-12-29T13:16:40Z
2010-12-29T13:16:40Z 2008 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl / А.В. Савчук, С.А. Кочетова, Н.И. Буряк, Н.Х.Туманова // Украинский химический журнал. — 2008. — Т. 74, № 3. — С. 31-33. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.
0041–6045 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/14856 541.138+541.135.3 |
|
| Language |
ru
|
|
| Publisher |
Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України
|
|