Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів ІнформаціяПоле | Співвідношення | |
Title |
Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
|
|
Creator |
Сисюк, В.Г.
Грищенко, В.К. Гранчак, В.М. Бубнова, А.С. Давискиба, П.М. |
|
Subject |
Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
|
|
Description |
Розроблені фотополімеризаційноздатні композиції на основі лугорозчинного полімеру та олігоефіракрилатів і епокси акрилатів для створення захисних покриттів (масок) плат друкованого монтажу. Досліджено вплив олігомерних складових на фізико механічні властивості полімерного матеріалу. Проведена оптимізація складу фоточутливої композиції для виго товлення трафаретної фарби з метою формування захисного покриття (маски) високої якості та випробування фарби та покриття на виробництві. Photopolymerable compositions based on alkali-soluble polymers with oligoetheracrylate and epoxyacrylate are developed for creation of protective coatings (masks) of board circuit wiring. The influence of oligomer components on physicochemical and physicomechanical properties of a polymeric material is investigated. Optimization of photosensitive composition structure, which was used for screen printing manufacturing, is lead with the purpose of the high quality protective coating (mask) image formation and its testing at manufacture. Key words: board, protective coating, photopolymer composition, modification, reactive oligomer, imaging, optimization. |
|
Date |
2010-12-29T11:18:23Z
2010-12-29T11:18:23Z 2008 |
|
Type |
Article
|
|
Identifier |
Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат / Сисюк В.Г., Грищенко В.К., Гранчак В.М., Бубнова А.С., Давискиба П.М. // Наука та інновації. — 2008. — Т. 4, N 6. — С. 5-11. — укр.
1815-2066 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/14830 |
|
Language |
uk
|
|
Publisher |
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
|
|