Запис Детальніше

Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
 
Creator Сисюк, В.Г.
Грищенко, В.К.
Гранчак, В.М.
Бубнова, А.С.
Давискиба, П.М.
 
Subject Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
 
Description Розроблені фотополімеризаційноздатні композиції на основі лугорозчинного полімеру та олігоефіракрилатів і епокси
акрилатів для створення захисних покриттів (масок) плат друкованого монтажу. Досліджено вплив олігомерних складових
на фізико механічні властивості полімерного матеріалу. Проведена оптимізація складу фоточутливої композиції для виго
товлення трафаретної фарби з метою формування захисного покриття (маски) високої якості та випробування фарби та
покриття на виробництві.
Photopolymerable compositions based on alkali-soluble polymers with oligoetheracrylate and epoxyacrylate are developed for creation of protective coatings (masks) of board circuit wiring. The influence of oligomer components on physicochemical and physicomechanical properties of a polymeric material is investigated. Optimization of photosensitive composition structure, which was used for screen printing manufacturing, is lead with the purpose of the high quality protective coating (mask) image formation and its testing at manufacture. Key words: board, protective coating, photopolymer composition, modification, reactive oligomer, imaging, optimization.
 
Date 2010-12-29T11:18:23Z
2010-12-29T11:18:23Z
2008
 
Type Article
 
Identifier Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат / Сисюк В.Г., Грищенко В.К., Гранчак В.М., Бубнова А.С., Давискиба П.М. // Наука та інновації. — 2008. — Т. 4, N 6. — С. 5-11. — укр.
1815-2066
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/14830
 
Language uk
 
Publisher Видавничий дім "Академперіодика" НАН України