Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2
|
|
| Creator |
Марченко, Ю.А.
Перун, Н.В. Сасса, И.В. Ванжа, А.Ф. |
|
| Subject |
Диагностика и методы исследований
|
|
| Description |
Описаны конструкция и особенности плазменного разряда источника ионов с подогреваемым катодом, предназначенного для использования на технологической установке ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2. Приведены зависимости тока пучка от параметров разряда.
Описано конструкція та особливості плазмового розряду джерела іонів з катодом, що підігрівається, який призначено для використання на технологічній установці іонно-стимулюючого осадження покриттів АРГО-2. Приведені залежності струму пучка від параметрів розряду. Construction and structural features of plasma discharge of ions source with heated cathode is described. This source intended is used in technological plant ARGO-2 for the ion-stimulated deposition of coatings. Dependences of beam current on the discharge parameters are presented. |
|
| Date |
2011-01-31T12:06:17Z
2011-01-31T12:06:17Z 2010 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2 / Ю.А. Марченко, Н.В. Перун, И.В. Сасса, А.Ф. Ванжа // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 1. — С. 157-160. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
1562-6016 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/15671 621.384.6:620.198 |
|
| Language |
ru
|
|
| Publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
|
|