Установка для прецизійного іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Установка для прецизійного іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок
|
|
| Creator |
Руденко, Е.М.
Короташ, І.В. Семенюк, В.Ф. Шамрай, К.П. |
|
| Subject |
Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
|
|
| Description |
Створена установка для іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок та інших наноструктур. Установка містить високовакуумну систему відкачки, систему напуску робочих газів, камеру геліконного розряду, камеру дрейфа, вакуумно-дугові джерела, джерела живлення та систему контролю з малогабаритним оптичним спектрометром. Установка інтегрує процеси плазмово-стимульованого хімічного парофазного осадження, очищення та активації поверхні підкладки у плазмі розряду, нанесення перехідних адгезійних шарів та шарів металу-каталізатора, а також процес безпосереднього формування вуглецевих наноструктур.
Создана установка для ионно-плазменного формирования углеродных нанотрубок и других наноструктур. Установка содержит высоковакуумную систему откачки, систему напуска рабочих газов, камеру геликонного разряда, камеру дрейфа, вакуумно-дуговые источники, источники пи тания и систему контроля с малогабаритным оптическим спектрометром. Установка интегрирует процессы плаз менно-стимулированного химического парофазного осаждения, очистки и активации поверхности подложки в плазме разряда, нанесения переходных адгезионных слоев и металла-катализатора, а также процесс непосредственного формирования углеродных наноструктур. The plant for ionic-plasma formation carbon nanotubes and other nanostructures is created. The plant contains highvacuum-pump system, working gases letting system, helicon discharge chamber, drift chamber, vacuum-arc sources, power sources and monitoring system with a small-sized optical spectrometer. The plant integrates processes plasma-enhanced chemical vapour-phase deposition, plasma clearing and activation of a substrate surface, deposition of transitive adhesive layers and metal-catalyst, direct formation process of carbon nanostructure. |
|
| Date |
2011-10-23T19:37:48Z
2011-10-23T19:37:48Z 2009 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Установка для прецизійного іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок / Е.М. Руденко, І.В. Короташ, В.Ф. Семенюк, К.П. Шамрай // Наука та інновації. — 2009. — Т. 5, № 5. — С. 5-8. — Бібліогр.: 3 назв. — укр.
1815-2066 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/27892 |
|
| Language |
uk
|
|
| Relation |
Наука та інновації
|
|
| Publisher |
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
|
|