Запис Детальніше

Высокояркостные ВЧ-источники ионов для ускорительных приложений

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Высокояркостные ВЧ-источники ионов для ускорительных приложений
 
Creator Возный, В.И.
Мирошниченко, В.И.
Мордик, С.Н.
Нагорный, А.Г.
Нагорный, Д.А.
Сторижко, В.Е.
Шульга, Д.П.
 
Subject Наукові основи інноваційної діяльності
 
Description Представлены результаты исследований двух типов ВЧ-источников ионов: геликонового и мультикаспового с компактными системами постоянных магнитов. Получены следующие параметры источников: плотность плазмы 10¹¹—9 × 10¹² cм–3, плотность ионного тока — 10—130 мA/cм², яркость — ~100 A•м–2•рад–2•еВ–1, энергетический разброс — 8—30 еВ при ВЧ-мощности 40—400 Вт, вводимой в плазму, и рабочем давлении в разрядной камере 2—10 мТорр.
Наведені результати досліджень двох типів ВЧ-джерел іонів: геліконного та мультикаспового з компактними системами постійних магнітів. Отримано такі параметри джерел: густина плазми — 10¹¹—9 × 10¹² cм–3, густина іонного струму — 10—130 мА/cм², яскравість — ~100 A • м–2 • рад–2 • еВ–1, енергетичний розкид 8—30 еВ при ВЧ-потужності 40— 400 Вт, що вводиться у плазму, і робочому тиску в розрядній камері 2—10 мТорр.
The results of investigations of two types of radio-frequency ion sources: helicon and multicusp versions with compact magnet systems are presented. The following paramenters of the sources were obtained: plasma density of 10¹¹—9 × 10¹² cm–3, beam current densities of 10—130 mA/cm², brightness ~100 A • m–2 • rad–2 • eV–1, energy spread 8—30 eV, RF power input into the plasma of 40—400 W and pressure of 2—10 mTorr.
 
Date 2011-10-29T13:59:56Z
2011-10-29T13:59:56Z
2010
 
Type Article
 
Identifier Высокояркостные ВЧ-источники ионов для ускорительных приложений / В.И. Возный, В.И. Мирошниченко, С.Н. Мордик, А.Г. Нагорный, Д.А. Нагорный, В.Е. Сторижко, Д.П. Шульга // Наука та інновації. — 2010. — Т. 6, № 5. — С. 38-44. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
1815-2066
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/28135
 
Language ru
 
Relation Наука та інновації
 
Publisher Видавничий дім "Академперіодика" НАН України