Запис Детальніше

Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si»

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si»
 
Creator Кулинич, О.А.
Яцунский, И.Р.
Ештокина, Т.Ю.
Брусенская, Г.И.
Марчук, И.А.
 
Subject Материалы электроники
 
Description Показана возможность использования метода фотолюминесценции для изучения механизмов пластической деформации на границе «оксид кремния — кремний» в процессе получения слоев наноструктурированного кремния деформационным методом.
Показано можливість використання методу фотолюмінесценції для вивчення механізмів пластичної деформації на границі «оксид кремнію — кремній» в процесі отримання шарів наноструктурованого кремнію деформаційних методом.
The possibility of using the photoluminescence method for studying the mechanisms of plastic deformation at the boundary of "SiO₂—Si" in the process of obtaining nanostructured silicon layers by deformation.
 
Date 2013-12-06T14:58:32Z
2013-12-06T14:58:32Z
2012
 
Type Article
 
Identifier Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» / О.А. Кулинич, И.Р. Яцунский, Т.Ю. Ештокина, Г.И. Брусенская, И.А. Марчук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 2. — С. 47-50. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.
2225-5818
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51670
537.311.33:622.382.33
 
Language ru
 
Relation Технология и конструирование в электронной аппаратуре
 
Publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України