Повышение помехоустойчивости бинаризации изображений фотошаблонов в пространстве вейвлет-преобразования
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Повышение помехоустойчивости бинаризации изображений фотошаблонов в пространстве вейвлет-преобразования
|
|
| Creator |
Щербакова, Г.Ю.
Дилевский, А.А. Крылов, В.Н. Логвинов, О.В. Плачинда, О.Е. |
|
| Subject |
Технологические процессы и оборудование
|
|
| Description |
Предложен метод, основанный на применении субградиентного итеративного метода оптимизации в пространстве вейвлет-преобразования, который удовлетворяет требованиям задачи автоматизированного оптического контроля фотошаблонов по погрешности и помехоустойчивости.
Запропоновано інформаційну технологію аналізу гістограм та метод завадостійкої бінаризації зображень фотошаблонів (ФШ) ІС та друкованих плат (ДП) на її основі. Цей метод, заснований на застосуванні субградієнтного ітеративного завадостійкого методу оптимізації, задовольняє вимогам задачі автоматизованого оптичного контролю ФШ і ПП за похибкою та завадостійкістю. Помилка бінаризації не перевищує 1 пікселя призначенні відношення сигнал/ шум більш ніж 7. An information technology for histogram analysis and a method for noise immunity binary processing of integrated and printed circuits board photo-masks image based on this technology was carried out. This method based on the sub-gradient iterative noise stability optimization method satisfies the demands of the automated optical control of photo-masks and printed circuits in the error and noise immunity. The maximum binary processing error does not exceed 1 pixel if the signal-to-noise ratio is more than 7. |
|
| Date |
2013-12-14T00:54:19Z
2013-12-14T00:54:19Z 2011 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Повышение помехоустойчивости бинаризации изображений фотошаблонов в пространстве вейвлет-преобразования / Г.Ю. Щербакова, А.А. Дилевский, В.Н. Крылов, О.В. Логвинов, О.Е. Плачинда // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2011. — № 6. — С. 23-26. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51862 621.382 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
|
|
| Publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
|
|