Запис Детальніше

Получение активных слоев InP в составе гетероструктур для диодов Ганна

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Получение активных слоев InP в составе гетероструктур для диодов Ганна
 
Creator Вакив, Н.М.
Круковский, С.И.
Заячук, Д.М.
Михащук, Ю.С
Круковский, Р.С.
 
Subject Технологические процессы и оборудование
 
Description Рассмотрены особенности получения эпитаксиальных слоев InP с высокой подвижностью электронов из расплавов индия, легированного редкоземельными и изовалентными элементами.
Показано, що комплексне легування розплавів індію рідкісноземельним (Yb) та ізовалентним (Al) елементами підвищує ефективність очистки від фонових домішок епітаксійних шарів InP, отриманих рідиннофазною епітаксією, що приводить до збільшення їх структурної досконалості. При оптимальній кількості Yb та Al в розплав концентрація електронів в шарах зменшується, а їх рух ливість зростає. Розроблена технологія може бути вико ристана для виготовлення структур для діодів Ганна, фотоприймачів та інших оптоелектронних приладів.
It is shown that for epitaxial InP layers obtained by liquidphase epitaxy complex dopping of indium melts by optimal concentrations of rare-earth Yb and isovalent element Al promotes useful increase of cleaning effect from background impurities and leads to growth of its structural perfection. The concentration of electrons in InP layers decreases and their mobility increases on optimal amounts of Yb and Al in the melt. This technology may be used in producing structures for Gunn diodes, photoreceivers and other optoelectronic devices.
 
Date 2013-12-20T21:11:25Z
2013-12-20T21:11:25Z
2010
 
Type Article
 
Identifier Получение активных слоев InP в составе гетероструктур для диодов Ганна / Н.М. Вакив, С.И. Круковский, Д.М. Заячук, Ю.С. Михащук, Р.С. Круковский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 3. — С. 50-53. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
2225-5818
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51954
 
Language ru
 
Relation Технология и конструирование в электронной аппаратуре
 
Publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України