Запис Детальніше

Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники
 
Creator Конакова, Р.В.
Колядина, Е.Ю.
Матвеева, Л.А
Нелюба, П.Л.
Шинкаренко, В.В.
 
Subject Технологические процессы и оборудование
 
Description Исследовано влияние типа металлизации и микроволнового облучения на свойства омических контактов к гетеро-структурам, содержащим фуллерены. Выявлено преимущество титановой металлизации перед золотой.
Розглянуто два види металізації (Au, Ti) до матеріалу, що містить фулерен. Досліджено ефективність мікрохвильоого відпалу полімер-фулеренового шару з обома металізаціями, та показано, що НВЧ-обробка знижує сумарний опір структури в обох випадках. Показано перспективність використання титанової металізації у порівнянні з золотою, та проаналізовано механізми, що обумовлюють якість титанової металізації.ѕ
Two types of metallization (Au, Ti) to a fullerene-bearing material are investigated. The advantages of microwave annealing are noted. Microwave annealing of polymer-fullerene layers with both metallizations is studied; the resistance decreases in both cases. The titanium metallization seems to be more promising than the gold one. The mechanisms responsible for titanium metallization quality are presented.
 
Date 2013-12-22T00:54:49Z
2013-12-22T00:54:49Z
2010
 
Type Article
 
Identifier Радиационная технология улучшения омических контактов к элементам электронной техники / Р.В. Конакова, Е.Ю. Колядина, Л.А, Матвеева П.Л. Нелюба, В.В. Шинкаренко // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 40-42. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
2225-5818
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51983
 
Language ru
 
Relation Технология и конструирование в электронной аппаратуре
 
Publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України