Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления
|
|
| Creator |
Брус, В.В.
Ковалюк, З.Д. Марьянчук, П.Д. Орлецкий, И.Г. Майструк, Э.В. |
|
| Subject |
Материалы электроники
|
|
| Description |
Исследованы вольт-амперные характеристики металлических контактов на тонких пленках диоксида титана, а также влияние отжига структур в вакууме на их электрические свойства.
Досліджено вольт-амперні характеристики металевих кон тактів (Al, Cr, In, Mo, Ti) на тонких плівках діоксиду титану, а також вплив відпалу структур у вакуумі на їх електричні ластивості. Вимірювання ВАХ металевих контактів проодилися за допомогою трьохзондового методу. Встановлено, що контакт індію на тонких плівках TiO₂ відзначається чітко вираженими омічними властивостями. The article deals with research on volt-ampere characteristics of metal contacts (Al, Cr, In, Mo, Ti) on titanium dioxide thin films and influence of annealing in vacuum on their electric properties. Volt-ampere characteristics measurements were taken by three-probe method. There was established that indium contact on TiO₂ thin films possessed sharply defined ohmic properties. |
|
| Date |
2013-12-22T01:21:36Z
2013-12-22T01:21:36Z 2010 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления / В.В. Брус, З.Д. Ковалюк, П.Д. Марьянчук, И.Г. Орлецкий, Э.В. Майструк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 60-62. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51988 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
|
|
| Publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
|
|