Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металлополупроводниковыми переходами
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів ІнформаціяПоле | Співвідношення | |
Title |
Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металлополупроводниковыми переходами
|
|
Creator |
Ёдгорова, Д.М.
Каримов, А.В. |
|
Subject |
Функциональная микро- и наноэлектроника
|
|
Description |
Результаты могут быть использованы для оценки частотного диапазона, зависимости фоточувствительности от поля, выявления механизмов фоточувствительности двухбарьерных структур с металлополупроводниковыми переходами.
|
|
Date |
2014-01-25T12:42:53Z
2014-01-25T12:42:53Z 2005 |
|
Type |
Article
|
|
Identifier |
Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металлополупроводниковыми переходами / Д.М. Ёдгорова, А.В. Каримов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 5. — С. 27-30. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/53627 |
|
Language |
ru
|
|
Relation |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
|
|
Publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
|
|