Получение пригодного для сенсорики пористого кремния методом неэлектролитического травления MacEtch
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів ІнформаціяПоле | Співвідношення | |
Title |
Получение пригодного для сенсорики пористого кремния методом неэлектролитического травления MacEtch
|
|
Creator |
Яцунский, И.Р.
|
|
Subject |
Материалы электроники
|
|
Description |
Для получения микро- и наноструктур пористого кремния предлагается использовать метод неэлектролитического травления MacEtch (metal assisted chemical etching). Представлены результаты исследования морфологии структур, полученных при разных параметрах процессов осаждения и травления, и показана возможность их использования в качестве сенсоров газов и биологических объектов.
Для отримання мікро- та наноструктур пористого кремнію пропонується використовувати метод неелектролітичного травлення MacEtch (metal assisted chemical etching). Надано результати дослідження морфології структур, отриманих при різних параметрах процесів осадження і травлення, та показана можливість їх використання як сенсорів газів і біологічних об’єктів. The author suggests to use the etching method MacEtch (metal-assisted chemical etching) for production of micro- and nanostructures of porous silicon. The paper presents research results on the morphology structures obtained at different parameters of deposition and etching processes. The research has shown that, depending on the parameters of deposition of silver particles and silicon wafers etching, the obtained surface morphology may be different. There may be both individual crater-like pores and developed porous or macroporous surface. These results indicate that the MacEtch etching is a promising method for obtaining micro-porous silicon nanostructures suitable for effective use in gas sensors and biological object sensors. |
|
Date |
2014-02-17T23:48:13Z
2014-02-17T23:48:13Z 2013 |
|
Type |
Article
|
|
Identifier |
Получение пригодного для сенсорики пористого кремния методом неэлектролитического травления MacEtch / И.Р. Яцунский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2013. — № 6. — С. 52-56. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.
2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/56399 621.794:546.48 |
|
Language |
ru
|
|
Relation |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
|
|
Publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
|
|