Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе
|
|
| Creator |
Перекрестов, В.И.
Кравченко, С.Н. |
|
| Subject |
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
|
|
| Description |
Методом микродифракции электронов и просвечивающей электронной микроскопии был исследован механизм образования пленок Cr, осажденных на сколы NaCl при помощи магнетронного распыления на постоянном токе. При повышении энергии конденсируемых атомов, а также при снижении скорости наращивания пленки и повышении температуры осаждения усиливается тенденция к зарождению сверхтонких пленок в виде метастабильной аморфной фазы (АФ). Переход из аморфного в кристаллическое состояние происходит в процессе наращивания пленки и при весомом вкладе диффузионных потоков в направлении АФ→кристалл.
|
|
| Date |
2015-03-12T20:12:11Z
2015-03-12T20:12:11Z 2000 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе / В.И. Перекрестов, С.Н. Кравченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 4. — С. 173-175. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
1562-6016 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/78215 533.9 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Вопросы атомной науки и техники
|
|
| Publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
|
|