Запис Детальніше

Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди
 
Creator Сафонов, В.И.
Марченко, И.Г.
Картмазов, Г.Н.
Дикий, Н.И.
 
Subject Облучательная техника, ядерно-физические методы исследования структуры и свойств твердых тел
 
Description Исследовался процесс низкоэнергетичного (Е<З кэВ ) облучения поверхности меди ионами Ti и Al из сепарированного потока плазмы вакуумной дуги. Представлены результаты измерения концентрационных профилей титана и алюминия в зависимости от дозы облучения и температуры подложки. Установлено, что глубина залегания бомбардируемых ионов существенно превышает проекционный пробег ионов и зависит от температуры подложки и вида ионов. Процесс накопления внедренных примесей Ti и Al является термоактивируемым, с характерной энергией 7…15 кДж/г.моль. Одним из объяснений полученных результатов является радиационно-стимулированная диффузия внедренной примеси по междоузельному механизму. Данные, полученные методом ядерных реакций, коррелируют с измерениями внедренной дозы, полученными рентгенофлюоресцентным методом.
 
Date 2015-03-12T20:14:09Z
2015-03-12T20:14:09Z
2000
 
Type Article
 
Identifier Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди / В.И. Сафонов, И.Г. Марченко, Г.Н. Картмазов, Н.И. Дикий // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 4. — С. 182-184. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
1562-6016
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/78218
533.9
 
Language ru
 
Relation Вопросы атомной науки и техники
 
Publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України