Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів ІнформаціяПоле | Співвідношення | |
Title |
Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди
|
|
Creator |
Сафонов, В.И.
Марченко, И.Г. Картмазов, Г.Н. Дикий, Н.И. |
|
Subject |
Облучательная техника, ядерно-физические методы исследования структуры и свойств твердых тел
|
|
Description |
Исследовался процесс низкоэнергетичного (Е<З кэВ ) облучения поверхности меди ионами Ti и Al из сепарированного потока плазмы вакуумной дуги. Представлены результаты измерения концентрационных профилей титана и алюминия в зависимости от дозы облучения и температуры подложки. Установлено, что глубина залегания бомбардируемых ионов существенно превышает проекционный пробег ионов и зависит от температуры подложки и вида ионов. Процесс накопления внедренных примесей Ti и Al является термоактивируемым, с характерной энергией 7…15 кДж/г.моль. Одним из объяснений полученных результатов является радиационно-стимулированная диффузия внедренной примеси по междоузельному механизму. Данные, полученные методом ядерных реакций, коррелируют с измерениями внедренной дозы, полученными рентгенофлюоресцентным методом.
|
|
Date |
2015-03-12T20:14:09Z
2015-03-12T20:14:09Z 2000 |
|
Type |
Article
|
|
Identifier |
Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди / В.И. Сафонов, И.Г. Марченко, Г.Н. Картмазов, Н.И. Дикий // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 4. — С. 182-184. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
1562-6016 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/78218 533.9 |
|
Language |
ru
|
|
Relation |
Вопросы атомной науки и техники
|
|
Publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
|
|