Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока
|
|
| Creator |
Костин, Е.Г.
|
|
| Subject |
Газовый разряд, плазменно-пучковый разряд
|
|
| Description |
Приведены результаты исследований разрядного устройства для ионизации паров твердофазных веществ, испаряемых электронной пушкой с отклонением луча на 180°. Ионизирующее разрядное устройство диодного типа размещалось над поверхностью испаряемого материала и находилось в продольном регулируемом магнитном поле. Разряд осуществлялся в скрещенных электрическом и магнитном полях. Частичная ионизация пара производилась первичными и вторичными электронами пушки в облаке пара над испаряемым веществом. Изучались электрофизические свойства и структура осаждённых из ионизированного потока плёнок. Проведен сравнительный анализ свойств пленок, осажденных в условиях воздействия бомбардировки ионами испаряемого металла в зависимости от энергии и содержания ионов в потоке частиц на подложку.
Наведені результати досліджень розрядного пристрою для іонізації пару твердофазних речовин. Випаровування речовини проводилось електронною гарматою з відхиленням проміня на 180°. Іонізуючій розрядний пристрій діодного типу розміщувався над поверхнею випаровуємого матеріалу і знаходився в продольному регулюємому магнітному полі. Таким чином розряд відбувався в схрещених електричному і магнітному полях. Часткова іонізація пару здійснювалась первинними та вторинними електронами електронної гармати в щільній парі над випаровуємою речовиною. Досліджувались електрофізичні властивості та структура плівок, осaджених з іонізованного потоку. Проведено порівняльний аналіз властивостей плівок, які осаджені в умовах впливу бомбардування іонами металу, що випаровуєтся, в залежності від енергії іонів та відносного вмісту іонів у потоці частинок на підкладину. Results of researches of the discharge device for ionization of the vapor of solid materials are presented. Evaporation of a material was made by an electron gun with a deviation of a beam on 180°. Diode type discharge device for ionization was placed above a surface of evaporated metal and was in a longitudinal adjustable magnetic field. Discharge was carried out in crossed electric and magnetic fields. Partial ionization of the vapor was made by primary and secondary electrons of the gun in a vapor cloud above evaporated substance. Physical properties and structure of the films. The comparative analysis of the films properties, besieged in conditions of influence of bombardment by ions of evaporated metal were studied depending on energy and the contents of ions in a stream of particles on a substrate. |
|
| Date |
2015-05-10T14:29:37Z
2015-05-10T14:29:37Z 2006 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Применение разрядов в парах испаряемых металлов для осаждения плёнок из ионизированного потока / Е.Г. Костин // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 131-135. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
1562-6016 PACS: 52.77.-j http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/81131 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Вопросы атомной науки и техники
|
|
| Publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
|
|