Magnetron with a concave hemispherical cathode
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів ІнформаціяПоле | Співвідношення | |
Title |
Magnetron with a concave hemispherical cathode
|
|
Creator |
Stetsenko, B.V.
Shchurenko, A.I. Zavyalov, Yu.G. |
|
Subject |
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
|
|
Description |
A magnetron set up with a hemispherical concave cathode has been worked out for the first time. The cathode center of curvature was registered with the sputtered surface. An aluminum nitride film was sputtered by this magnetron in the pulse regime. The pulse duration was about 2 ms. The film thickness was between 10 to 12 nm. The sputtering rate was about 50 nm/s. The magnetron characteristics agree with a qualitative model of the magnetron. Вперше створено модель магнетрону з напівсферичним катодом, що увігнутий у бік поверхні, на яку проводиться напорошення. В імпульсному режимі напорошена плівка нітриду алюминию, товщина якої в центрі запорошеної області дорівнює 10 нм, а поблизу края катоду – 12 нм. Швидкість запорошення − 50 нм/с. Характеристики магнетрону якісно відповідають модельним розрахункам. Впервые создана модель магнетрона с полусферическим катодом, вогнутым в сторону напыляемой поверхности. В импульсном режиме напылена плёнка нитрида алюминия, толщина которой в центре запыленной площадки равна 10 нм, а вблизи края катода − 12 нм. Скорость напыления − 50 нм/c. Характеристики магнетрона качественно соответствуют модельным расчётам. |
|
Date |
2015-11-11T19:59:58Z
2015-11-11T19:59:58Z 2009 |
|
Type |
Article
|
|
Identifier |
Magnetron with a concave hemispherical cathode / B.V. Stetsenko, A.I. Shchurenko, Yu.G. Zavyalov // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 134-135. — Бібліогр.: 8 назв. — англ.
1562-6016 PACS: 85.45.Db;85.45.Fd http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/88319 |
|
Language |
en
|
|
Relation |
Вопросы атомной науки и техники
|
|
Publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
|
|