Диффузионные процессы и интерфейсное рассеяние электронов в пленочных системах на основе Cu/Fe и Fe/Cr
Electronic Archive of Sumy State University
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Диффузионные процессы и интерфейсное рассеяние электронов в пленочных системах на основе Cu/Fe и Fe/Cr
Diffusion processes and interface electron scattering in film systems based on Cu/Fe and Fe/Cr |
|
| Creator |
Синашенко, Оксана Владимировна
Салтыкова, А.И. Проценко, Иван Ефимович Synashenko, Oksana Volodymyrivna Saltykova, A.I. Protsenko, Ivan Yukhymovych Проценко, Іван Юхимович Синашенко, Оксана Володимирівна |
|
| Subject |
ДИФФУЗИОННЫЙ ПРОФИЛЬ
ВИМС КОЭФФИЦИЕНТ ДИФФУЗИИ ШЕРОХОВАТОСТЬ ИНТЕРФЕЙСА DIFFUSION PROFILE SIMS DIFFUSION COEFFICIENT INTERFACE ROUGHNESS |
|
| Description |
Приведены результаты исследования диффузионных процессов методами ВИМС и ОЭС в пленочных системах Cu/Fe и Fe/Cr; изучено влияние температуры отжига на эффективные коэффициенты термодиффузии. Рассчитаны величины коэффициента прохождения электронами интерфейса и эффективные коэффициенты диффузии при различных процессах: конденсационно-стимулированной, ионно-стимулированной и термодиффузии. // Eng Investigation results of diffusion processes by the SIMS and the AES methods in Cu/Fe and Fe/Cr film systems are represented; influence of the annealing temperature on the effective thermal diffusion coefficients is studied. Values of the interface transmission coefficient and the effective diffusion coefficients in different processes, namely, the condensation-stimulate diffusion, the ion-stimulate one, and the thermal diffusion, are calculated.
|
|
| Publisher |
Изд-во СумГУ
|
|
| Date |
2011-01-16T14:39:18Z
2011-01-16T14:39:18Z 2009 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
О.В. Сынашенко, А.И. Салтыкова, И.Е. Проценко, Ж. нано- электрон. физ. 1 №2, 89 (2009)
2077-6772 http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/2651 |
|