Factors influencing the yield stress of silicon
DSpace at ONEU
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Factors influencing the yield stress of silicon
Фактори, що впливають на величину порога пластичності в кремнії Факторы, влияющие на величину порога пластичности в кремнии |
|
| Creator |
Kulinich, O.
Кулініч, О.А. Кулинич, О.А. |
|
| Subject |
silicon
structural defects the yield stress кремній структурні дефекти поріг пластичності кремний структурные дефекты порог пластичности |
|
| Description |
Factors influencing the yield stress of silicon are investigated with advanced research methods. It is shown that elastic stresses which are concentrated at the structural defects (dislocation, crystalline grain boundary, dendrite and lamella) will influence on the yield stress of silicon. За допомогою сучасних методів дослідження, визначені фактори, що впливають на величину порога пластичності в напівпровідниковому кремнію. Поряд з відомими факторами, на величину порога пластичності впливають пружні напруження, що локалізовані в області знаходження структурних дефектів. Используя современные методы исследования, определены факторы, влияющие на величину порога пластичности монокристаллического кремния. Наряду с известными факторами, величина порога плстичности будет зависеть от упругих напряжений, локализованных в облатси нахождения структурных дефектов. |
|
| Date |
2014-11-11T12:18:51Z
2014-11-11T12:18:51Z 2010 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Kulinich O. Factors influencing the yield stress of silicon / O. Kulinich, V. Smyntyna, I. Iatsunskyi, I. Marchuk // Фотоэлектроника. – 2010. - № 19. - С. 120-124.
http://dspace.oneu.edu.ua/jspui/handle/123456789/2561 |
|
| Language |
en
|
|