Запис Детальніше

Simulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasma

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Simulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasma
 
Creator Konovalov, V.G.
Makhov, M.N.
Ryzhkov, I.V.
Shapoval, A.N.
Shtan’, A.F.
Skorik, O.A.
Solodovchenko, S.I.
Timoshenko, A.I.
Voitsenya, V.S.
 
Subject Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
 
Description The dynamics of interference figure of the reflection spectrum for stainless steel and copper mirrors with specially
deposited carbon-containing film (ɚ-C:H) were studied when the film was gradually eroded under impact of a deuterium
plasma produced in conditions of electron cyclotron resonance (ECR). The refraction coefficient of the film was
estimated and the rate of the film removal was obtained.
Досліджувалася динаміка інтерференційної картини спектру віддзеркалення сталевих і мідних дзеркал з штучно нанесеною вуглецьвмісною плівкою (a-C:H) по мірі розпилювання в дейтерієвій плазмі ЕЦР-розряду. Проведена оцінка коефіцієнта заломлення плівки. Отримана кількісна оцінка швидкості розпилювання.
Исследовалась динамика интерференционной картины спектра отражения стальных и медных зеркал с искусственно нанесенной углеродсодержащей пленкой (a-C:H) по мере распыления в дейтериевой плазме ЭЦР-разряда. Проведена оценка коэффициента преломления пленки. Получена количественная оценка скорости распыления.
 
Date 2016-01-06T12:03:16Z
2016-01-06T12:03:16Z
2011
 
Type Article
 
Identifier Simulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasma / V.G. Konovalov, M.N. Makhov, I.V. Ryzhkov, A.N. Shapoval, A.F. Shtan’, O.A. Skorik, S.I. Solodovchenko, A.I. Timoshenko, V.S. Voitsenya // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 146-148. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.50.Sw
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90955
 
Language en
 
Relation Вопросы атомной науки и техники
 
Publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України