Simulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasma
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів ІнформаціяПоле | Співвідношення | |
Title |
Simulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasma
|
|
Creator |
Konovalov, V.G.
Makhov, M.N. Ryzhkov, I.V. Shapoval, A.N. Shtan’, A.F. Skorik, O.A. Solodovchenko, S.I. Timoshenko, A.I. Voitsenya, V.S. |
|
Subject |
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
|
|
Description |
The dynamics of interference figure of the reflection spectrum for stainless steel and copper mirrors with specially deposited carbon-containing film (ɚ-C:H) were studied when the film was gradually eroded under impact of a deuterium plasma produced in conditions of electron cyclotron resonance (ECR). The refraction coefficient of the film was estimated and the rate of the film removal was obtained. Досліджувалася динаміка інтерференційної картини спектру віддзеркалення сталевих і мідних дзеркал з штучно нанесеною вуглецьвмісною плівкою (a-C:H) по мірі розпилювання в дейтерієвій плазмі ЕЦР-розряду. Проведена оцінка коефіцієнта заломлення плівки. Отримана кількісна оцінка швидкості розпилювання. Исследовалась динамика интерференционной картины спектра отражения стальных и медных зеркал с искусственно нанесенной углеродсодержащей пленкой (a-C:H) по мере распыления в дейтериевой плазме ЭЦР-разряда. Проведена оценка коэффициента преломления пленки. Получена количественная оценка скорости распыления. |
|
Date |
2016-01-06T12:03:16Z
2016-01-06T12:03:16Z 2011 |
|
Type |
Article
|
|
Identifier |
Simulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasma / V.G. Konovalov, M.N. Makhov, I.V. Ryzhkov, A.N. Shapoval, A.F. Shtan’, O.A. Skorik, S.I. Solodovchenko, A.I. Timoshenko, V.S. Voitsenya // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 146-148. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.
1562-6016 PACS: 52.50.Sw http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90955 |
|
Language |
en
|
|
Relation |
Вопросы атомной науки и техники
|
|
Publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
|
|