Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si
|
|
| Creator |
Мовчан, Б.А.
Устинов, А.И. Полищук, С.С. Мельниченко, Т.В. |
|
| Subject |
Электронно-лучевые процессы
|
|
| Description |
Изучены структурные изменения в микрослойных покрытиях (Ti,Cr)-Si в процессе изотермических отжигов при температурах 800, 1000 и 1100 °С. Микрослойную структуру получали путем электронно-лучевого испарения двух слитков (Ti-Cr и Si) и конденсации в вакууме несмешивающихся паровых потоков. Показано, что при диффузионном взаимодействии между слоями микрослойная структура покрытия разрушается и образуется структура на основе икосаэдрической (или аппроксимантной к ней) фазы.
|
|
| Date |
2016-02-08T12:53:15Z
2016-02-08T12:53:15Z 2003 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si / Б.А. Мовчан, А.И. Устинов, С.С. Полищук, Т.В. Мельниченко // Современная электрометаллургия. — 2003. — № 1. — С. 15-18. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.
0233-7681 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/94056 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Современная электрометаллургия
|
|
| Publisher |
Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України
|
|