Адгезионные свойства тонких металлических покрытий, нанесённых на стекло методом ионно-стимулированного осаждения
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів ІнформаціяПоле | Співвідношення | |
Title |
Адгезионные свойства тонких металлических покрытий, нанесённых на стекло методом ионно-стимулированного осаждения
|
|
Creator |
Марченко, Ю.А.
Перун, Н.В. Воеводин, В.Н. Ванжа, А.Ф. Александров, В.А. |
|
Subject |
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
|
|
Description |
Представлены результаты исследования адгезии методом склерометрии тонких металлических плёнок Тi на стеклянных подложках, формируемых в условиях осаждения с одновременным облучением ионами Не с энергией 30 кэВ при температуре 300 °С. Обнаружено, что максимальная адгезия реализуется при толщине плёнки Тi 0,2…0,3 мкм и соотношении He/Ti при имплантации равном 0,3…0,35. При этом прочность сцепления пленки со стеклом составляет 350 МПа. Представлені результати дослідження адгезії методом склерометріі тонких металевих плівок Тi на скляних підкладках, що формуються в умовах осадження з одночасним опромінюванням іонами Не з енергією 30 кеВ при температурі 300 °С. Виявлено, що максимальна адгезія реалізується при товщині плівки Тi 0,2…0,3 мкм і співвідношенні He/Ti при імплантації рівному 0,3…0,35. При цьому міцність зчеплення плівки з склом складає 350 МПа. The results of research of adhesion the method of sclerometry of thin metallic tapes of Тi are presented on glass substrates, formed in the conditions of besieging with a simultaneous irradiation ions Не with energy 30 keV at the temperature of 300 °C. It is discovered that maximal adhesion will be realized at the thickness of tape of Тi 0,2…0,3 mkm and correlation of He/Ti during implantation equal 0,3…0,35. Thus durability of coupling of tape with glass is 350 MРa. |
|
Date |
2016-03-15T21:18:47Z
2016-03-15T21:18:47Z 2009 |
|
Type |
Article
|
|
Identifier |
Адгезионные свойства тонких металлических покрытий, нанесённых на стекло методом ионно-стимулированного осаждения / Ю.А. Марченко, Н.В. Перун, В.Н. Воеводин, А.Ф. Ванжа, В.А. Александров // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 4. — С. 298-301. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
1562-6016 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/96394 621.384.6:620.198 |
|
Language |
ru
|
|
Relation |
Вопросы атомной науки и техники
|
|
Publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
|
|