Формирование интенсивных электронных пучков в протяженном плазменном диоде с металлогидридным инжектором предварительной плазмы
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Формирование интенсивных электронных пучков в протяженном плазменном диоде с металлогидридным инжектором предварительной плазмы
|
|
| Creator |
Целуйко, А.Ф.
Бориско, В.Н. Зиновьев, Д.В. Дробышевская, А.А. Клочко, Е.В. |
|
| Description |
В статье рассматривается возможность создания автономного сильноточного источника электронного пучка на основе импульсного самостоятельного плазменно-пучкового разряда М-типа. Для создания предварительной плазмы используется отражательный разряд с полым металлогидридным катодом, который обеспечивает импульсную подачу водорода в газоразрядную камеру. В качестве материала металлогидридного катода использовался геттерный гидридообразующий сплав Zr₅₀V₅₀. Приведены результаты исследований термодесорбционных свойств такого металлогидридного катода, оптимизированы параметры дополнительного источника заряженных частиц и условий формирования интенсивных электронных пучков в самостоятельном плазменно-пучковом разряде. У статті розглянута можливість створення автономного сильнострумового джерела електронного пучка на основі імпульсного самостійного плазмово-пучкового розряду М-типу. Для створення первинної плазми використовується відбиваючий розряд з порожнистим металогідридним катодом, що забезпечує імпульсну подачу водню до газорозрядної камери. Як матеріал металогідридного катоду використовувався гетерний сплав Zr₅₀V₅₀.Наведені результати досліджень термодесорбційних властивостей такого металогідридного катоду, оптимізовані параметри додаткового джерела заряджених частинок та умов формування інтенсивних електронних пучків у самостійному плазмово-пучковому розряді. The opportunity of creating independent high-current source of an electron beam on the basis of the pulse independent plasma-beam discharge of M-type is considered in this paper. For creation of preliminary plasma the reflective discharge with the hollow metal hydride cathode which provides pulse admission of hydrogen in the discharge chamber is used. The getter hydride formative alloy Zr₅₀V₅₀ as a material of the metal hydride cathode was used. The results of the researches into thermal desorption properties of such metal hydride cathode are reported. The parameters of the additional source of charged particles and conditions of the intensive electronic beam formation in the independent plasma-beam discharge are optimized. |
|
| Date |
2016-04-14T18:14:59Z
2016-04-14T18:14:59Z 2003 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Формирование интенсивных электронных пучков в протяженном плазменном диоде с металлогидридным инжектором предварительной плазмы / А.Ф. Целуйко, В.Н. Бориско, Д.В. Зиновьев, А.А. Дробышевская , Е.В. Клочко // Физическая инженерия поверхности. — 2003. — Т. 1, № 3-4. — С. 319–328. — Бібліогр.: 17 назв. — рос.
1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98453 537.5:541.4:621.3 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Физическая инженерия поверхности
|
|
| Publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
|
|