Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда
|
|
| Creator |
Дудин, С.В.
|
|
| Description |
Описана система автоматического мониторинга технологического процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда, позволяющая в условиях интенсивных ВЧ помех измерять основные параметры процесса, отображать на экране компьютера их текущие значения и временные зависимости, а также записывать протокол технологического процесса. Описано систему автоматичного моніторингу технологічного процесу плазмохімічного травління в реакторі на базі ВЧ індукційного розряду, яка дозволяє в умовах інтенсивних ВЧ перешкод вимірювати основні параметри процесу, відображати на екрані комп’ютера їх поточнізначення та часові залежності, а також записувати протокол технологічного процесу. The system for automatic monitoring of the plasmachemical etching process in the ICP reactor is described, which in conditions of intense RF interference allows measuring the main process parameters, displaying the parameters and its time dependencies on the computer monitor as well as recording the protocol of the technology process. |
|
| Date |
2016-04-17T19:42:51Z
2016-04-17T19:42:51Z 2006 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда / С.В. Дудин // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 169–173. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98794 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Физическая инженерия поверхности
|
|
| Publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
|
|