Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source
|
|
| Creator |
Vozniy, O.V.
Yeom, G.Y. Kropotov, A.Yu. |
|
| Description |
In this work, the deviation of energy distribution function of energetic ions from the predetermined value in an inductively coupled plasma (ICP) ion gun source is discussed. An abnormal plasma potential increase at an extraction voltage 400 V caused a beam energy shift of up to 50 eV compared to the preset value. The ion energy peak position was found to be more affected by pressure at higher extraction voltages on the acceleration grid. У даній роботі обговорюється відхилення функції розподілу по енергіях прискорених іонів від установленого значення в джерелі на основе ВЧІ розряду. Аномальне збільшення потенціала плазми при значенні прискорючого напруження 400 В викликало зсув енергії пучка убік великих значень на величину до 50 еВ. При цьому було виявлено, що положення максимуму функції розподілу залежило від тиску в більшому ступені при більш високих значеннях прискорючого напруження. В данной работе обсуждается отклонение функции распределения по энергиямускоренных ионов от установленного значения в источнике на основе ВЧИ разряда. Аномальное увеличение потенциала плазмы при значении ускоряющего напряжения 400 В вызывало смещение энергии пучка в сторону больших значений на величину до 50 эВ. При этом было обнаружено, что положение максимума функции распределения зависело от давления в большей степени при более высоких значениях ускоряющего напряжения. |
|
| Date |
2016-04-17T21:58:53Z
2016-04-17T21:58:53Z 2007 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source / O.V. Vozniy, G.Y. Yeom, A.Yu. Kropotov // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 28–33. — Бібліогр.: 21 назв. — англ.
1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98816 539.198 |
|
| Language |
en
|
|
| Relation |
Физическая инженерия поверхности
|
|
| Publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
|
|