О возможности усиления фототока плазмы газового разряда в преобразователях изображений ионизационного типа
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
О возможности усиления фототока плазмы газового разряда в преобразователях изображений ионизационного типа
|
|
| Creator |
Касымов, Ш.С.
Парицкий, Л.Г. Хайдаров, З. Хомидов, В.О. Отажонов, С.М. |
|
| Description |
В настоящей работе рассматривается возможности усиления фототока плазмы газового разряда в преобразователях изображений на регистрирующих средах. Это достигается тем, что включение дополнительного электрода в разрядном промежутке и с этим создается возможность значительного понижения рабочего напряжения на фотоприемнике и усиления фототока плазмы газового разряда в преобразователях изображений. У цій роботі розглядається можливості посилення фотоструму плазми газового розряду у перетворювачах зображень на середовищах, що реєструють. Це досягається тим, що включення додаткового електрода в розрядному проміжку створює можливість значного зниження робочої напруги на фотоприймачі й посилення фотоструму плазми газового розряду в перетворювачах зображень. The possibilities of strengthening plazma photocurrent of gaz discharge in the representation transformers on the register medium have been examined in this work. It is achieved by switching on additional electrode in the discharge gap and by significant drop in tension on the photorecriver and intensification of photocurrent plazma of gaz discharge in representation transformers. |
|
| Date |
2016-04-19T12:59:23Z
2016-04-19T12:59:23Z 2010 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
О возможности усиления фототока плазмы газового разряда в преобразователях изображений ионизационного типа / Ш.С. Касымов, Л.Г. Парицкий, З. Хайдаров, В.О. Хомидов, С.М. Отажонов // Физическая инженерия поверхности. — 2010. — Т. 8, № 3. — С. 214–221. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98895 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Физическая инженерия поверхности
|
|
| Publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
|
|