Structural transformation in C/Si multilayer after annealing
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів ІнформаціяПоле | Співвідношення | |
Title |
Structural transformation in C/Si multilayer after annealing
|
|
Creator |
Zhuravel, I.O.
Bugayev, Ye.A. Konotopsky, L.E. Zubarev, E.M. Sevryukova, V.A. Kondratenko, V.V. |
|
Description |
Amorphous C/Si multilayers were prepared by DC magnetron sputtering technique and investigated by transmission electron microscopy and low-angle x-ray diffraction methods after annealing at 650 and 950 °C. The amorphous interlayers of 0.5 − 0.6 nm thick were found at C/Si and Si/C interfaces being of different density and composition. Amorphous structure of the multilayer is stable up to 950 °C when crystallization of α-SiC occurs and voids form in α-Si layer. Изготовленные методом прямоточного магнетронного распыления аморфные многослойные композиции C/Si были исследованы методами просвечивающей электронной микроскопии и малоугловой рентгеновской дифракции после отжигов при температуре 650 и 950 °C. На границах раздела C/Si и Si/C обнаружены аморфные перемешанные зоны толщиной 0.5 – 0.6 нм c различными плотностью и составом. Аморфная структура многослойной композиции стабильна вплоть до 950 °C, когда наблюдается формирование пор в слоях α-Si и кристаллизация α-SiC. Виготовлені методом прямоточногомагнетронного розпилення аморфні багатошарові композиції C/Si було досліджено методами просвічувальної електронної мікроскопії та малокутової рентгенівської дифракції після відпалу при температурі 650 і 950 °C. На межах поділу C/Si та Si/C виявлені аморфні перемішані зони різної густини та складу завтовшки 0.5 – 0.6 нм. Аморфна структура багатошарової композиції є стабільною до 950 °C, коли спостерігається формування пор у шарах α-Si у та кристалізація α-SiC. |
|
Date |
2016-04-19T18:24:46Z
2016-04-19T18:24:46Z 2012 |
|
Type |
Article
|
|
Identifier |
Structural transformation in C/Si multilayer after annealing / I.O. Zhuravel, Ye.A. Bugayev, L.E. Konotopsky, E.M. Zubarev, V.A. Sevryukova, V.V. Kondratenko // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 3. — С. 314–318. — Бібліогр.: 13 назв. — англ.
1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98978 536.248.1; 539.26; 538.971 |
|
Language |
en
|
|
Relation |
Физическая инженерия поверхности
|
|
Publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
|
|