Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
|
|
| Creator |
Журавель, И.А.
Бугаев, Е.А. Пеньков, А.В Зубарев, Е.Н. Севрюкова, В.А. Кондратенко, В.В. |
|
| Description |
Исследована структура и фазовый состав многослойных периодических композиций C/Si при помощи малоугловой рентгеновской дифракции, просвечивающей электронной микроскопии и Рамановской спектроскопии при температурах 50—1050 °C. В исходном состоянии композиция C/Si представляет собой аморфные слои углерода и кремния, разделенные аморфными перемешанными зонами различной плотности. С ростом температуры происходит изменение периода композиции вследствие роста зон и графитизации углерода. При 700 °C начинается кристаллизация кремния. При 800 °C на основе кристаллического кремния формируется кристаллический SiC кубической модификации. При 900—1000 °C происходит разрушение периодической структуры композиции.
Досліджено структуру та фазовий склад багатошарових періодичних композицій C/Si за допомогою малокутової рентгенівської дифракції, просвічувальної електронної мікроскопії та Раманівської спектроскопії при температурах 50—1050 °C. У початковому стані композиція C/Si є аморфними шарами вуглеця та кремнію, розділеними аморфними змішаними зонами різної густини. Зі зростанням температури відбувається змінення періоду композиції внаслідок зростання зон та графітизації вуглецю. При 700 °C починається кристалізація кремнію. При 800 °C на основі кристалічного кремнію формується кристалічний SiC кубічної модифікації. При 900—1000 °C відбувається руйнування періодичної структури композиції. Structure and composition of C/Si periodical multilayers were investigated by means of low-angle X-ray diffraction, transmission electron microscopy and Raman spectroscopy at temperatures within 50—1050 °C range. In as-deposited state C/Si multilayer presents amorphous carbon and silicon layers divided by amorphous intermixing layers of different density. As the temperature increases, multilayer period changes as a result of increase of intermixing layers and carbon graphitization. At 700 °C silicon crystallization begins. At 800 °C crystalline SiC of cubic modification forms on basis of crystalline silicon. At 900—1000 °C destruction of multilayer periodical structure takes place. |
|
| Date |
2016-06-12T04:44:42Z
2016-06-12T04:44:42Z 2014 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si / И.А. Журавель, Е.А. Бугаев, А.В. Пеньков, Е.Н. Зубарев, В.А. Севрюкова, В.В. Кондратенко // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 1. — С. 20-30. — Бібліогр.: 27 назв. — рос.
1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/102617 536.248.1; 539.26; 538.971 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Физическая инженерия поверхности
|
|
| Publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
|
|