Запис Детальніше

Метод имплантации, как регулирование процесса нанесения ртутной плёнки на поверхность электродных материалов

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Метод имплантации, как регулирование процесса нанесения ртутной плёнки на поверхность электродных материалов
 
Creator Кальменова, Г.А.
Мусина, А.С.
Мухамединова, Н.А.
Байташева, Г.А.
 
Description Установлено, что использование ионной имплантации дает возможность регулировать процесс нанесения ртутной пленки — создавать условия смачивания и несмачивания ртутью поверхности материалов, применяемых для индикаторных микроэлектродов с ртутно-пленочным покрытием для проведения экологического контроля объектов окружающей среды.
Встановлено, що використання іонної імплантації дозволяє регулювати процес нанесення ртутної плівки — створювати умови змочування і незмочування ртуттю поверхні електродних матеріал, які застосовуються для індикаторних мікроелектродів з ртутно-плівковим покриттям для проведення екологічного контролю об’єктів навколишнього середовища.
It is established that use of a method of ionmplantation gives the chance to regulate process of drawing a mercury film — to create a condition of wetting and not wetting by mercury of a surface of the electrode materials used at development of indicator microelectrodes with a mercury and film covering for carrying out environmental control of objects of environment.
 
Date 2016-06-28T20:45:42Z
2016-06-28T20:45:42Z
2014
 
Type Article
 
Identifier Метод имплантации, как регулирование процесса нанесения ртутной плёнки на поверхность электродных материалов / Г.А. Кальменова, А.С. Мусина, Н.А. Мухамединова, Г.А. Байташева // Электрические контакты и электроды. — К.: ИПМ НАН України, 2014. — С. 148-153. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
2311-0627
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/103996
66.001.5:621.3.035.222
 
Language ru
 
Relation Электрические контакты и электроды
 
Publisher Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України