Формирование никель-платинового силицидного слоя в качестве барьерного для диода Шоттки
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів ІнформаціяПоле | Співвідношення | |
Title |
Формирование никель-платинового силицидного слоя в качестве барьерного для диода Шоттки
|
|
Creator |
Кучинский, П.В.
Комаров, Ф.Ф. Мильчанин, О.В. Ковалева, Т.Б. Солодуха, В.А. Турцевич, А.С. Соловьев, Я.А. Гапоненко, С.В. |
|
Description |
Предложен новый метод формирования барьера Шоттки, который включает магнетронное нанесение из многокомпонентной мишени, содержащей ванадий, платину и никель, тонкой пленки на кремнии с последующей ступенчатой термообработкой. С использованием данного метода изготовлены диоды Шоттки с высотой барьера 0,69—0,71 В. Установлено, что барьерный слой состоит из силицидной фазы Ni1-xPtxSi.
Запропоновано новий метод формування бар’єра Шоттки, який включає магнетронне нанесення з многокомпонентної мішені, що має в складі ванадій, платину та нікель, тонкої плівки на кремнії з наступною ступеневою термообробкою. З використанням данного методу виготовлено діоди Шоттки з высотою бар’єру 0,69—0,71 В. Встановлено, що бар’ерний шар складається з сіліцидної фази Ni1-xPtxSi. A new method of forming a Schottky barrier, including a magnetron deposition of thin compound metal films (Pt, Ni and V) on silicon and a subsequent heat treatment step, was proposed. Using this method Schottky diodes were fabricated with a barrier height from 0,69 to 0,71 V. It was found that the barrier layer consists of Ni1-xPtxSi silicide phase. |
|
Date |
2016-06-28T21:08:52Z
2016-06-28T21:08:52Z 2014 |
|
Type |
Article
|
|
Identifier |
Формирование никель-платинового силицидного слоя в качестве барьерного для диода Шоттки / П.В. Кучинский, Ф.Ф. Комаров, О.В. Мильчанин, Т.Б. Ковалева, В.А. Солодуха, А.С. Турцевич, Я.А. Соловьев, С.В. Гапоненко // Электрические контакты и электроды. — К.: ИПМ НАН України, 2014. — С. 211-219. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.
2311-0627 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/104006 539.234,538.911,549.086,621.382.22 |
|
Language |
ru
|
|
Relation |
Электрические контакты и электроды
|
|
Publisher |
Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України
|
|