Effect of increasing surface roughness on sputtering and reflection
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Effect of increasing surface roughness on sputtering and reflection
|
|
| Creator |
Bizyukov, I.
Mutzke, A. Schneider, R. |
|
| Subject |
Динамика плазмы и взаимодействие плазмы со стенкой
|
|
| Description |
In this work, the SDTrimSP-2D code was used for numerical simulation of the interaction of ions with a 2D periodical structure as idealized test system to investigate the influence of surface roughness on sputtering. Sputtering yield and reflection coefficient have been studied as a function of the size of the pitch grating structure. Simulations show that the most important changes in ion-surface interactions occur when the structure size gets approximately equal to the size of the collisional cascade..
Код SDTrimSP-2D использовался для моделирования взаимодействия ионов с двухмерной поверхностью, которая взята в качестве идеализированной тестовой системы для исследования влияния шероховатости. Коэффициенты распыления и отражения изучались как функции характерного размера структуры дифракционной решетки. Моделирование показало, что наиболее важные изменения во взаимодействии ионов с поверхностью происходят тогда, когда размер структуры приблизительно равен размеру столкновительного каскада. Код SDTrimSP-2D використовувався для моделювання взаємодії іонів з двомірною поверхнею, яка обрана у якості ідеалізованої тестової системи для дослідження впливу шорсткості. Коефіцієнти розпилення і відбиття вивчалися як функціі характерного розміру структури дифракційної решітки. Моделювання показало, що найбільш важливі зміни у взаємодії іонів з поверхнею відбуваються тоді, коли розмір структури приблизно дорівнює розміру каскаду зіткнень. |
|
| Date |
2016-11-20T21:40:13Z
2016-11-20T21:40:13Z 2012 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Effect of increasing surface roughness on sputtering and reflection / I. Bizyukov, A. Mutzke, R. Schneider // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 111-113. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
1562-6016 PACS: 79.20 Rf http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/109143 |
|
| Language |
en
|
|
| Relation |
Вопросы атомной науки и техники
|
|
| Publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
|
|