Запис Детальніше

Treatment of polyimide films by an atmospheric pressure plasma of capacitive RF discharge for liquid crystal alignment

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Treatment of polyimide films by an atmospheric pressure plasma of capacitive RF discharge for liquid crystal alignment
 
Creator Bazhenov, V.Yu.
Chaplinskiy, R.Yu.
Kravchuk, R.M.
Kuzmichev, A.I.
Piun, V.M.
Tsiolko, V.V.
Yaroshchuk, O.V.
 
Subject Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
 
Description Uniform planar alignment of liquid crystals is obtained by polyimide films obliquely treated by a stream of argon plasma from capacitive RF discharge at atmospheric pressure. Two liquid crystal alignment modes are discovered differing by their longitudinal or transverse orientation with respect to treatment direction. Optimum parameters of the treatment for obtaining these orientation modes are determined.
Получена однородная планарная ориентация жидких кристаллов полиимидными слоями, наклонно обработанными потоком Ar-плазмы емкостного ВЧ-разряда атмосферного давления. Найдено два типа ориентации жидких кристаллов – вдоль и перпендикулярно направлению обработки. Установлены оптимальные параметры обработки для получения этих ориентационных мод.
Одержана однорідна планарна орієнтація рідких кристалів поліімідними шарами, похило обробленими потоком Ar-плазми ємнісного ВЧ-розряду атмосферного тиску. Знайдено два типи орієнтації рідких кристалів – уздовж та перпендикулярно напрямку обробки. Встановлено оптимальні параметри обробки для одержання цих орієнтаційних мод.
 
Date 2016-11-22T11:25:59Z
2016-11-22T11:25:59Z
2013
2013
 
Type Article
 
Identifier Treatment of polyimide films by an atmospheric pressure plasma of capacitive RF discharge for liquid crystal alignment / V.Yu. Bazhenov, R.Yu. Chaplinskiy, R.M. Kravchuk, A.I. Kuzmichev, V.M. Piun, V.V. Tsiolko, O.V. Yaroshchuk // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 1. — С. 177-179. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.80.Pi, 61.30.Hn, 81.65.-b
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/109283
 
Language en
 
Relation Вопросы атомной науки и техники
 
Publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України