Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™
|
|
| Creator |
Чапон, П.
Костенко, О.К. |
|
| Subject |
Світ інновацій
|
|
| Description |
Описаны методы оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего ВЧ-разряда. Приведены характеристики плазмы тлеющего разряда, позволяющие выполнять эрозию поверхности с высокой скоростью. Описані методи оптичної емісійної спектрометрії тліючого ВЧ-розряду. Наведені характеристики плазми тліючого розряду, що дозволяють виконувати ерозію поверхні з високою швидкістю. Methods of optical emission spectrometry of grow HFdis charge are described. The unique characteristics of GD plasma, which allow performing very fast surface erosion, are presented. |
|
| Date |
2017-04-20T13:15:54Z
2017-04-20T13:15:54Z 2012 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ / П. Чапон, О.К. Костенко // Наука та інновації. — 2012. — Т. 8, № 2. — С. 34-38. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
1815-2066 DOI: doi.org/10.15407/scin8.02.034 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/116087 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Наука та інновації
|
|
| Publisher |
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
|
|