Запис Детальніше

Химическое травление монокристаллов PbTe и Pb1–xSnxTe растворами H₂O₂–HBr с использованием разной исходной концентрации HBr

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Химическое травление монокристаллов PbTe и Pb1–xSnxTe растворами H₂O₂–HBr с использованием разной исходной концентрации HBr
 
Creator Маланич, Г.П.
Томашик, В.М.
Стратийчук, И.Б.
Томашик, З.Ф.
 
Description Исследован характер химического травления монокристаллов PbTe и твердых растворов Pb1–xSnxTe в зависимости от исходной концентрации HBr, используемой для приготовления травильных композиций H₂O₂–HBr. Изучены зависимости скоростей химико-динамического травления поверхности полупроводников от состава растворов, их температуры и перемешивания, а также влияние исходной концентрации HBr на концентрационный интервал полирующих травителей и качество полученной поверхности. Оптимизированы составы травителей и режимы проведения химико-динамического полирования поверхности PbTe и Pb1–xSnxTe.
Investigated in this work is the nature of the chemical etching of PbTe and Pb1–xSnxTe solid solutions single crystals depending on initial HBr concentrations used for preparing the H₂O₂–HBr etching compositions. The dependences of chemical-dynamic etching rate of semiconductor surfaces on the composition etchants, their temperature and stirring regimes have been studied. The influence of the initial HBr concentration on the concentration range of polishing etchants and quality of the obtained surfaces has been also determined. The authors have performed optimization of etchant compositions and operation conditions for chemical-dynamic polishing the surfaces of the PbTe and Pb1–xSnxTe single crystals.
 
Date 2017-05-14T20:40:23Z
2017-05-14T20:40:23Z
2015
 
Type Article
 
Identifier Химическое травление монокристаллов PbTe и Pb1–xSnxTe растворами H₂O₂–HBr с использованием разной исходной концентрации HBr / Г.П. Маланич, В.М. Томашик, И.Б. Стратийчук, З.Ф. Томашик // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2015. — Вип. 50. — С. 94-101. — Бібліогр.: 14 назв. — рос.
0233-7577
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/116755
621.794.4, 546.811/815’24
 
Language ru
 
Relation Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
 
Publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України