Запис Детальніше

Additional lines in quantum wells excitonic spectra connected with QW asymmetry caused by technology

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Additional lines in quantum wells excitonic spectra connected with QW asymmetry caused by technology
 
Creator Ryabchenko, S.M.
Kirichenko, F.V.
Semenov, Yu.G.
Abramishvili, V.G.
Komarov, A.V.
 
Description The calculations of intensity ratio of both the main and additional lines, the
energy differences between which are fulfilled for quantum well (QW) with
asymmetrical potential profile, are presented here. It is grounded on the
basis of this calculation that additional line in exciton spectrum of QW can
be explained by transitions between the confined states of valence and
conductivity electrons with different parity, which ceases to be forbidden in
the presence of asymmetry of QW potential profile caused by technology
of growth. It is shown that e1-hh2 additional exciton line is more intensive
in most of the actual cases. In particular, it is shown that the additional
exciton line, which was observed in the laser ablation grown structures
with QW, may be explained as e1-hh2 transition. The calculations show the
substantial sensitivity of the results not only to the parameter of widening
of the interface, but to the detailed type of the interface profile function. It is
concluded that the laser ablation method of heterostructure growth leads
to a larger asymmetry of QW potential profile caused by technology than
MBE potential profile.
Проведенi розрахунки вiдношення iнтенсивностей основної i додаткової лiнiй, енергетичної вiдстанi мiж ними для квантових ям (КЯ) з
асиметричним потенцiальним профiлем. Обгрунтовано, що додаткова лiнiя у екситонному спектрi КЯ може бути пояснена переходами
мiж утримуваними в КЯ станами валентних електронiв i електронiв
провiдностi з рiзною парнiстю, якi перестають бути забороненими у
присутностi асиметрiї потенцiального профiлю, спричиненої технологiєю вирощування КЯ. Показано, що додаткова екситонна лiнiя типу e1-hh2 є бiльш iнтенсивною в бiльшiй частинi актуальних випадкiв.
Зокрема, показано, що додаткова екситонна лiнiя в структурах вирощених методом лазерної абляцiї, може бути пояснена як e1-hh2 перехiд. Розрахунки показують суттєву чутливiсть не лише до параметру розширення iнтерфейсу, але й до функцiї його профiлю. Зроблено висновок, що метод лазерної абляцiї призводить до бiльшої асиметрiї КЯ, нiж метод молекулярно-пучкової епiтаксiї.
 
Date 2017-06-12T10:45:46Z
2017-06-12T10:45:46Z
1999
 
Type Article
 
Identifier Additional lines in quantum wells excitonic spectra connected with QW asymmetry caused by technology / S.M. Ryabchenko, F.V. Kirichenko, Yu.G. Semenov, V.G. Abramishvili, A.V. Komarov // Condensed Matter Physics. — 1999. — Т. 2, № 3(19). — С. 543-552. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
1607-324X
DOI:10.5488/CMP.2.3.543
PACS: 78.55.Et
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/120546
 
Language en
 
Relation Condensed Matter Physics
 
Publisher Інститут фізики конденсованих систем НАН України