Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы
|
|
| Creator |
Бевза, О.М.
Сидоренко, С.Б. Мумладзе, А.В. |
|
| Description |
При разработке магнетронной распылительной системы для осаждения двухкомпонентной плёнки заданного состава с одного источника, где один из компонентов — магнитный материал, необходимо решить ряд задач: разработать конструкцию магнетрона, которая позволит решить проблему шунтирования магнитного поля материалом мишени; обеспечить необходимое соотношение материалов в осаждаемой плёнке. В работе проанализированы способы решения проблемы шунтирования магнитного поля материалом мишени. Разработана конструкция магнетронной распылительной системы, которая позволяет распылять одновременно магнитный и немагнитный материалы. Разработан простой метод определения соотношения материалов в осаждаемой плёнке при осаждении их с одной магнетронной распылительной системы. Представлены результаты моделирования и экспериментального исследования разработанной магнетронной распылительной системы
При розробці магнетронної розпорошувальної системи для осадження двокомпонентної плівки заданого складу з одного джерела, де один з компонентів — магнетний матеріял, необхідно вирішити ряд завдань: розробити конструкцію магнетрона, яка уможливить розв’язати проблему шунтування магнетного поля матеріялом мішені; забезпечити необхідне співвідношення матеріялів у плівці, що осаджується. В роботі проаналізовано способи розв’язання проблеми шунтування магнетного поля матеріялом мішені. Розроблено конструкцію магнетронної розпорошувальної системи, яка уможливлює розпорошувати одночасно магнетний і немагнетний матеріяли. Розроблено просту методу визначення співвідношення матеріялів у плівці, що осаджується, при їх осадженні з однієї магнетронної розпорошувальної системи. Представлено результати моделювання й експериментального дослідження розробленої магнетронної розпорошувальної системи. To create a two-component magnetron sputtering system, where one component of it is a magnetic material, it is necessary to solve the following tasks: to develop the design of the magnetron sputtering system with shunted magnetic field lines by the target material; to provide the necessary ratio of materials in the deposited film. This paper analyses the ways to solve a problem of shunting the magnetic field lines by the target material. A design of the magnetron sputtering system, which allows sputtering the magnetic and nonmagnetic materials, is developed. A simple determination method for the ratio of materials in the deposited film is suggested. The simulation results and experimental research of developed magnetron sputtering system are presented. |
|
| Date |
2018-02-02T19:44:06Z
2018-02-02T19:44:06Z 2016 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы / О.М. Бевза, С.Б. Сидоренко, А.В. Мумладзе // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2016. — Т. 14, № 4. — С. 577-589. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
1816-5230 PACS: 34.50.-s, 41.20.Gz, 52.25.Tx, 52.77.Dq, 81.15.Cd, 84.40.Fe, 85.70.Ay http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/129956 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
|
|
| Publisher |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
|
|