Запис Детальніше

Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu

Vernadsky National Library of Ukraine

Переглянути архів Інформація
 
 
Поле Співвідношення
 
Title Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu
 
Creator Бордун, О.М.
Бордун, І.О.
Кухарський, І.Й.
Пташник, В.В.
Цаповська, Ж.Я.
Леонов, Д.С.
 
Description Досліджено структуру поверхні тонких плівок Y₂O₃:Eu, одержаних методою ВЧ-йонно-плазмового напорошення, при зміні концентрації активатора в межах 1,0–7,5 мол.%. Виміряно спектри ІЧ-відбивання одержаних систем тонка плівка Y₂O₃:Eu–підкладинка з топленого кварцу υ-SiO₂ у спектральній області 400–1600 см–1 при Т = 295 К. Проведено інтерпретацію смуг, пов’язаних з коливними процесами у плівках Y₂O₃:Eu. Встановлено, що смуги ІЧ-відбивання з максимумами в області 1218 і 1253 см⁻¹ є достатньо чутливими до зміни концентрації активатора Eu³⁺, розміру кристалітів, які формують плівку, та структурної досконалості одержаних плівок.
Исследована структура поверхности тонких плёнок Y₂O₃:Eu, полученных методом ВЧ-ионно-плазменного напыления, при изменении концентрации активатора в пределах 1,0–7,5 мол.%. Измерены спектры ИК-отражения полученных систем тонкая плёнка Y₂O₃:Eu–подложка из плавленого кварца υ-SiO₂ в спектральной области 400–1600 см⁻¹ при T = 295 К. Проведена интерпретация полос, связанных с колебательными процессами в плёнках Y₂O₃:Eu. Установлено, что полосы ИК-отражения с максимумами в области 1218 и 1253 см⁻¹ являются довольно чувствительными к изменению концентрации активатора Eu³⁺, размеру кристаллитов, которые формируют плёнку, и структурному совершенству полученных плёнок.
The structure of the surface of thin films of Y₂O₃:Eu obtained by RF sputtering when the activator concentration varies within the range 1.0–7.5 mol.% is investigated. The spectra of IR reflection of the thin film Y₂O₃:Eu–fused quartz (υ-SiO₂) substrate system at 295 K in region 400–1600 cm⁻¹ are measured. The peaks in the vibrational spectrum of films Y₂O₃:Eu are interpreted. AS revealed, the peaks of IR reflection with maxima at 1218 and 1253 cm⁻¹ are quite sensitive to changes of Eu³⁺ activator concentration, size of crystallites forming the film, and structural perfection of obtained films.
 
Date 2018-02-04T17:16:45Z
2018-02-04T17:16:45Z
2017
 
Type Article
 
Identifier Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu / О.М. Бордун, І.О. Бордун, І.Й. Кухарський, В.В. Пташник, Ж.Я. Цаповська, Д.С. Леонов // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2017. — Т. 15, № 1. — С. 27-36. — Бібліогр.: 22 назв. — укр.
1816-5230
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/130029
PACS: 42.30.-d, 63.22.dc, 68.37.Ps, 78.20.Ci, 78.30.-j, 78.60.Hk, 81.15.-z
 
Language uk
 
Relation Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
 
Publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України